[发明专利]一种发光二极管外延片及其制作方法

权利要求书

1.一种发光二极管外延片的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

提供一图形化蓝宝石衬底，所述图形化蓝宝石衬底的一个表面设有周期排列的图形；

在所述图形化蓝宝石衬底设有所述图形的表面上形成氮化铝缓冲层，所述氮化铝缓冲层包括位于所述图形上的第一部分、以及位于所述图形之间的第二部分；

在所述氮化铝缓冲层上涂覆光刻胶，位于所述第一部分上的光刻胶的厚度小于位于所述第二部分上的光刻胶的厚度；

对所述光刻胶进行干法刻蚀，直到去除位于所述第一部分的顶部的光刻胶；

去除所述第一部分的顶部；

在所述图形的顶部和剩余的所述光刻胶上铺设二氧化硅材料；

去除剩余的所述光刻胶、以及位于剩余的所述光刻胶上的二氧化硅材料，位于所述图形的顶部的二氧化硅材料形成二氧化硅层状结构；

在所述二氧化硅层状结构和剩余的所述氮化铝缓冲层上依次生长N型氮化镓层、发光层和P型氮化镓层。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述提供一图形化蓝宝石衬底，包括：

提供一蓝宝石衬底，所述蓝宝石衬底的表面为平面；

在所述蓝宝石衬底的一个表面上涂覆光刻胶；

对所述光刻胶进行曝光和显影，留下所述图形所在区域的光刻胶；

对所述蓝宝石衬底涂覆所述光刻胶的表面进行干法刻蚀，形成所述图形；

去除所述光刻胶。

3.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述图形的底面上两点之间的最大距离等于相邻两个所述图形的间距。

4.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述第一部分的厚度等于所述第二部分的厚度。

5.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述在所述氮化铝缓冲层上涂覆光刻胶，包括：

采用旋涂的方式在所述氮化铝缓冲层上涂覆光刻胶，旋涂的转速为500rpm～5000rpm。

6.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，位于所述第二部分上的光刻胶的厚度大于所述图形的高度。

7.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：

在所述对所述光刻胶进行干法刻蚀之前，在所述光刻胶上旋涂显影液或去胶液，对所述光刻胶进行湿法腐蚀，旋涂的转速为100rpm～4000rpm。

8.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述去除所述第一部分的顶部，包括：

采用腐蚀溶液去除所述第一部分的顶部，所述腐蚀溶液为氢氧化钾溶液、或者氢氧化钠溶液、或者磷酸和硝酸的混合溶液。

9.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述第一部分的顶部覆盖的图形的高度为所述图形的高度的1/4～1/2。