[发明专利]像素结构、显示基板和显示面板

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是指一种像素结构、显示基板和显示面板。

背景技术

MEMS(Micro Electro Mechanical System，微机电系统)的组成包括微型传感器、微型执行器、微型架构及相应的微型处理电路。它是一个独立的智能系统，可大批量生产，其系统尺寸在几毫米乃至更小，其内部结构一般在微米甚至纳米量级。

关于MEMS在显示领域的发展主要是有三个发展方向：DMD(Digital Micro mirror Device，数字微镜器件)显示技术，IMOD(Interferometer Modulator，干涉仪调节器)显示技术，DMS(Digital Micro Shutter，数字微型快门)显示技术。其中，IMOD显示技术属于反射式显示技术，是一种新的显示技术，即便是在阳光照射下，它也能使手机的显示器清晰锐丽。

但是，本发明的发明人在实现本发明的过程中发现，现有技术中的IMOD显示技术存在以下技术问题：

IMOD显示技术中用于形成光学干涉的空腔的高度是利用一对导电板上加的电压来进行控制的。这种控制方式需要额外增加控制单元，使得器件结构复杂化，成本较高，且控制难度较大。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例的目的在于提出一种像素结构、显示基板和显示面板，可以简化器件结构、降低控制难度。

基于上述目的本发明实施例提供的像素结构，包括沿入射光方向依次设置的第一反射层、支撑物组件和第二反射层；

所述支撑物组件与所述第一反射层和第二反射层围成三个封闭腔体；所述三个封闭腔体分别具有沿所述入射光方向的不同高度，且所述入射光经过在所述封闭腔体中的反射，形成出射光，三个不同高度的封闭腔体形成的出射光颜色各不相同。

可选的，所述像素结构还包括可移动遮挡层；所述可移动遮挡层设置在所述第一反射层的入射面一侧且能够沿垂直于入射光的方向水平移动，用于改变入射光和/或出射光的透过率。

可选的，所述可移动遮挡层包括三个可移动子遮挡层，所述可移动子遮挡层包括第一遮挡物和第二遮挡物，所述第一遮挡物和第二遮挡物之间的空隙用于透过入射光和/或出射光，且所述第一遮挡物和/或第二遮挡物是可移动的。

可选的，所述第一遮挡物和/或第二遮挡物在所述第一反射层上的沿入射光方向的投影，与所述支撑物组件的位置对应。

可选的，所述第一遮挡物和/或第二遮挡物的垂直于入射光方向的截面形状为矩形、半圆形、半椭圆形、三角形、锯齿形中的至少一种，和/或，所述封闭腔体的垂直于入射光方向的截面形状为正方形、矩形、圆形、椭圆形、菱形中的至少一种。

可选的，三个不同高度的所述封闭腔体的出射光分别为红色、绿色和蓝色。

可选的，所述三个封闭腔体的高度是固定的。

可选的，所述支撑物组件包括第一支撑物、第二支撑物、第三支撑物和第四支撑物；

所述第一支撑物具有第一高度；所述第二支撑物具有阶梯形表面，使其同时具有第一高度和第二高度；所述第三支撑物具有阶梯形表面，使其同时具有第二高度和第三高度；所述第四支撑物具有第三高度；

所述第一支撑物、所述第二支撑物与所述第二反射层和第一反射层围成具有第一高度的第一封闭腔体；所述第二支撑物、所述第三支撑物与所述第二反射层和第一反射层围成具有第二高度的第二封闭腔体；所述第三支撑物、所述第四支撑物与所述第二反射层和第一反射层围成具有第三高度的第三封闭腔体。

可选的，所述像素结构还包括吸收层，所述吸收层设置在所述第一反射层和支撑物组件之间；和/或，还包括透明基底，所述透明基底设置在所述第一反射层的远离所述封闭腔体的一侧。

可选的，所述像素结构还包括平坦层，所述平坦层设置在所述第二反射层的远离所述封闭腔体的一侧。

可选的，所述像素结构还包括保护层，所述保护层设置在所述平坦层的远离所述第二反射层的一侧。

可选的，所述支撑物组件与所述第一反射层之间设置有遮光层，且所述遮光层与所述支撑物组件的位置对应。

可选的，所述支撑物组件中含有黑色光阻材料。

本发明实施例的第二个方面，提供了一种显示基板包括如上任一项所述的像素结构。

本发明实施例的第三个方面，提供了一种显示面板，包括如前所述的显示基板。