[发明专利]一种喷涂于板材的UV纳米涂层涂料及其配方在审
申请号: | 201710565433.5 | 申请日: | 2017-07-12 |
公开(公告)号: | CN107236343A | 公开(公告)日: | 2017-10-10 |
发明(设计)人: | 张克财 | 申请(专利权)人: | 张克财 |
主分类号: | C09D4/06 | 分类号: | C09D4/06;C09D4/02;C09D5/08 |
代理公司: | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙)11548 | 代理人: | 李静 |
地址: | 628000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 喷涂 板材 uv 纳米 涂层 涂料 及其 配方 | ||
技术领域
本发明属于化工技术领域,尤其涉及一种喷涂于板材的UV纳米涂层涂料及其配方。
背景技术
UV光固机一直是用在光电行业的UV胶水光固化,现在,随着光功率的不断加强跟UV光固机映射面积的不短加大,UV固化机已经在技能上突破了光电行业的应用,逐渐走进各个行业,心脏印刷行业最具有个性,塑料片材印刷在先前一直依赖于丝网印刷,由于丝网印刷的工艺局限而无法印刷精细高级的产品,遂着国外设备及新技能、新工艺的引进,塑料片材印刷不再依赖丝网印刷,在广东、浙江等印刷业发达地区逐渐采用胶印UV印刷,胶印UV印刷以其工艺精细、印刷图案层次丰厚、立体感强、色彩鲜艳、多色套印准确高的优良工艺个性,能印刷出精美产品而广受迎接和推广,产品广泛被文具业、礼品包装业、食品业、玩具业、高级日用包装等行业应用,广阔盛大的市场前景使大量印刷厂商争先引进胶印UV印刷这项新技能。
目前国内塑料印刷的生产技术停留在将油墨印刷在板材上的前期工艺处理,对于油墨印刷后如何保证油墨的不退色、牢度高、耐氧化腐蚀和通过百格测试等技术难题,其处理手段尚处于通过改进油墨来实现,生产成本高的同时费时费力且不能保证产品无排放、无污染。
发明内容
本发明的目的在于:提供一种喷涂于板材的UV纳米涂层涂料及其配方,应用在玻璃、铝板、不锈钢板、铜板、铁板、铝塑板、亚克力板、胶板、三胺板、木板、石材板、瓷砖、皮革等油墨印刷领域,起到增强印刷油墨牢固度等技术难题。
一种喷涂于板材的UV纳米涂层涂料及其配方:其特征在于所述配方的成分包含以下成分:
EM221-TF单体、EM223-TF单体、树脂EM-39、改性丙烯酸酯、引发剂1173、引发剂184;
其中各成分间的配比为,EM221-TF单体(40%-50%)、EM223-TF单体(5%-10%)、树脂EM-39(1%-2%)、改性丙烯酸酯(25%-30%)、引发剂1173(4%)、引发剂184(1%)。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:
本发明的一种喷涂于板材的UV纳米涂层涂料及其配方,具有不退色、牢度高、耐氧化腐蚀、无排放、无污染等优点。
具体实施方式
实施例:
一种喷涂于板材的UV纳米涂层涂料及其配方:其配方的成分包含以下成分:
EM221-TF单体、EM223-TF单体、树脂EM-39、改性丙烯酸酯、引发剂1173、引发剂184;其中各成分间的配比为,EM221-TF单体(40%-50%)、EM223-TF单体(5%-10%)、树脂EM-39(1%-2%)、改性丙烯酸酯(25%-30%)、引发剂1173(4%)、引发剂184(1%)。
UV胶中的光引发剂在UV线的照射下产生活化的自由基﹐表面活化的自由基在UV光(250nm)照射下﹐与氧气起化学反应﹐生成二氧化基及单体﹐内部的活化的自由基与单体在UV光(365nm)照射下起化学反应﹐生成单体自由基﹐其在UV光(365nm)照射下又与单体起化学反应再结合﹐如此类推最后变成聚合物﹐这就是UV胶的硬化机理。
UV能量又称累积量或剂量﹐是素材照射到UV光多少时间的累积能量﹐即照度与时间的乘积﹐其单位为J或mJ/cm2.简单的说﹐在相同条件下﹐减少照射时间﹐得到的UV能量就减少﹔增加照射时间﹐得到的UV能量就增加。不同的照度与照射时间的乘积﹐可能到相同的UV能量﹐但得到的硬化效果是不一样的。
本发明的进一步为:
将百格测试ISO等级4、ASTM等级:1B的未喷纳米UV涂层的涂亚克力板进行UV薄膜喷涂,其测试结果为切口的边缘完全光滑,格子边缘没有任何剥落,喷涂了UV纳米涂层的UV彩印层,具备百格测试符合ISO等级:0;ASTM等级:5B的资格,其具有防水性、抗氧化腐蚀性等优点,填补了市场上的空白。
进一步的,
将三组喷涂本发明的彩印油墨试样侵入沸水中进行沸煮并分时间段对实验结果进行检测并记录,其检测周期为每小时检测并记录一次。
在实验进行的24小时内,三组试样产品均无肉眼可查颜色变化,其实验结果证明试样的产品的牢固性、密封性均得到了显著的提升。
利用本发明所述的技术方案,或本领域的技术人员在本发明技术方案的启发下,设计出类似的技术方案,而达到上述技术效果的,均是落入本发明的保护范围。
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