[发明专利]一种烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层，其特征在于：所述的高耐蚀复合涂层为SiO₂/对环芳烷复合涂层，所述的高耐蚀复合涂层采用对环芳烷、六甲基二硅氧烷制备而成。

2.一种烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

(1)磁体预处理工艺：对烧结NdFeB磁体依次进行酸洗、喷砂处理；

(2)磁体涂覆前处理：对预处理后的磁体进行炉内前处理；

(3)高耐蚀复合涂层的制备：采用化学气相沉积法在步骤(2)处理后的烧结NdFeB磁体表面制备SiO₂/对环芳烷复合涂层，同时采用循环氩离子对制备的复合涂层进行轰击。

3.根据权利要求2所述的烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)的具体过程如下：

首先，将烧结NdFeB磁体在5～12wt.％的硝酸溶液中酸洗10～30s；然后，将磁体在去离子水中超声清洗1～3min；最后，对磁体进行喷砂处理，喷砂材料为200～500目的棕刚玉，喷砂处理的角度为30～60°，时间为1～2min。

4.根据权利要求2所述的烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)的具体过程如下：

将步骤(1)处理后的烧结NdFeB磁体放入化学气相沉积涂覆设备中，采用循环氩离子轰击工艺对烧结NdFeB磁体进行轰击，保持真空室真空度为1～5Pa、Ar₂流量为100～200sccm，轰击20～40min。

5.根据权利要求2所述的烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)的具体过程如下：

采用化学气相沉积工艺同时对六甲基二硅氧烷和对环芳烷进行处理，分别生成氧化硅颗粒和对环芳烷单体，该氧化硅颗粒被生成的对环芳烷单体所包覆，随后在常温下沉积在烧结NdFeB磁体表面，形成SiO₂/对环芳烷复合涂层。

6.根据权利要求5所述的烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中对环芳烷和六甲基二硅氧烷的蒸发温度设为140～220℃，高温热解温度设为620～740℃，涂覆设备的真空度控制在1～4Pa。

7.根据权利要求2所述的烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中在制备SiO₂/对环芳烷复合涂层的同时采用循环氩离子对制备的复合涂层进行轰击夯实处理，Ar₂流量为40～100sccm。