[发明专利]用于旋转压板式ALD腔室的等离子体源

权利要求书

1.一种饼形等离子体源，具有定义宽度的内周边缘和外周边缘，所述内周边缘比所述外周边缘窄，所述等离子体源包括沿着所述等离子体源的宽度延伸的间隔开的多个导电棒，所述等离子体源配置为在所述内周边缘与所述外周边缘之间形成具有基本上均匀的等离子体密度的电感耦合的等离子体，

其中，相比在所述外周边缘处，朝向所述饼形等离子体源的所述内周边缘，导电棒的密集度更大。

2.如权利要求1所述的饼形等离子体源，其特征在于，所述导电棒之间的间距是所述饼形等离子体源的被所述导电棒延伸穿过的宽度的函数。

3.如权利要求1所述的饼形等离子体源，其特征在于，所述多个导电棒包括重复地穿过所述饼形等离子体源的单个棒。

4.如权利要求1所述的饼形等离子体源，其特征在于，所述导电棒中的每一个导电棒都是分开的棒。

5.如权利要求1所述的饼形等离子体源，其特征在于，所述多个导电棒以相对于所述饼形等离子体源的径向壁的倾斜角度延伸。

6.如权利要求1所述的饼形等离子体源，其特征在于，所述饼形等离子体源还包括电介质层，所述电介质层在所述多个导电棒与其中形成等离子体的区域之间。

7.如权利要求6所述的饼形等离子体源，其特征在于，所述电介质层包括石英。

8.一种处理腔室，包括：

至少一个如权利要求1至7中任一项所述的电感耦合的饼形等离子体源；以及

基板支撑装置，所述基板支撑装置在所述处理腔室内，所述基板支撑装置可绕所述处理腔室的中心轴旋转，以使至少一个基板沿与所述至少一个饼形等离子体源相邻的弧形路径移动。

9.如权利要求8所述的处理腔室，其特征在于，进一步包括多个气体分布组件，所述多个气体分布组件围绕所述处理腔室的所述中心轴被间隔开，并且所述多个气体分布组件定位在所述基板支撑装置上方。

10.如权利要求9所述的处理腔室，其特征在于，所述气体分布组件中的每一个气体分布组件包括多个伸长气体端口，所述伸长气体端口在基本上垂直于由所述至少一个基板横穿的所述弧形路径的方向上延伸，所述多个气体端口包括第一反应气体端口和第二反应气体端口，使得穿过所述气体分布组件的基板将按顺序经受所述第一反应气体端口和所述第二反应气体端口以将层沉积在所述基板上。

11.如权利要求9所述的处理腔室，其特征在于，存在多个电感耦合的饼形等离子体源，所述多个电感耦合的饼形等离子体源与所述多个气体分布组件交替，使得沿所述弧形路径移动的基板将顺序地暴露于气体分布组件和等离子体源。

12.如权利要求8所述的处理腔室，其特征在于，所述基板支撑装置包括基座组件。

13.如权利要求12所述的处理腔室，其特征在于，所述基座包括尺寸被设定为用以支撑基板的多个凹槽。

14.如权利要求13所述的处理腔室，其特征在于，所述凹槽具有使所述基板的顶表面基本与所述基座的顶表面共面的尺寸。

15.一种群集工具，包括：

中央转移站，包括用于在所述中央转移站和一个或多个负载锁定腔室以及处理腔室之间移动基板的机械手；以及

至少一个处理腔室，包括至少一个如权利要求1至7中任一项所述的电感耦合的饼形等离子体源，以及所述处理腔室内的基板支撑装置，所述基板支撑装置可绕所述处理腔室的中心轴旋转，以使至少一个基板沿与所述至少一个饼形等离子体源相邻的弧形路径移动。