[发明专利]像素单元、图像传感器、感测光信号的方法、操控像素单元的方法以及生成图像的方法有效

专利信息
申请号: 201710569830.X 申请日: 2017-07-13
公开(公告)号: CN107623826B 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: M·格泽;U·塞格 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: H04N5/353 分类号: H04N5/353;H04N5/355;H01L27/146
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 郭毅
地址: 德国斯*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 像素 单元 图像传感器 测光 信号 方法 操控 以及 生成 图像
【权利要求书】:

1.一种用于图像传感器(100)的像素单元(102),其中,所述像素单元(102)具有以下特征:

用于将光信号(106)转换成处理信号(108)的光电二极管(104);

复用单元(110),所述复用单元构造用于在使用所述处理信号(108)的情况下产生至少一个第一复用信号(118)以及与所述第一复用信号(118)不同的第二复用信号(120);

存储装置(112),其具有用于缓存所述第一复用信号(118)的至少一个第一存储单元(114)和用于缓存所述第二复用信号(120)的时间限界的积分值的第二存储单元(116),

其中,所述复用单元(110)构造用于以第一放大因数放大所述处理信号(108)来产生所述第一复用信号(118)并且以第二放大因数放大所述处理信号(108)来产生所述第二复用信号(120),其中,所述第一放大因数和所述第二放大因数彼此不同。

2.根据权利要求1所述的像素单元(102),其中,所述复用单元(110)构造用于同时产生所述第一复用信号(118)和所述第二复用信号(120)。

3.根据权利要求1所述的像素单元(102),其中,所述复用单元(110)构造用于在第一时刻产生所述第一复用信号(118)并且在第二时刻产生所述第二复用信号(120)。

4.根据上述权利要求中任一项所述的像素单元(102),其中,所述光电二极管(104)、所述复用单元(110)和所述存储装置(112)彼此串联连接,其中,所述第一存储单元(114)和所述第二存储单元(116)彼此并联连接。

5.根据上述权利要求中任一项所述的像素单元(102),其具有用于同时读取所述第一存储单元(114)和所述第二存储单元(116)的读取接通部(126)。

6.根据上述权利要求中任一项所述的像素单元(102),其中,所述光电二极管(104)构造用于将连续的电流作为所述处理信号(108)提供给所述复用单元(110)。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的像素单元(102),其中,所述光电二极管(104)构造用于将具有时间表的时间离散的信号作为所述处理信号(108)提供给复用单元(110),并且所述复用单元(110)构造用于使用所述时间表来产生所述第一复用信号(118)和所述第二复用信号(120)。

8.根据上述权利要求中任一项所述的像素单元(102),所述像素单元具有至少一个在所述光电二极管(104)与所述复用单元(110)之间连接的用于缓存所述处理信号(108)的附加存储单元(200),其中,所述复用单元(110)构造用于在使用在所述附加存储单元(200)中缓存的处理信号(108)的情况下产生所述第一复用信号(118)和/或所述第二复用信号(120)。

9.根据上述权利要求中任一项所述的像素单元(102),所述像素单元具有由第一半导体层(300)和第二半导体层(302)构成的层复合体,其中,所述光电二极管(104)布置在所述第一半导体层(300)中并且所述复用单元(110)和/或所述存储装置(112)布置在所述第二半导体层(302)中。

10.根据上述权利要求中任一项所述的像素单元(102),其中,所述复用单元(110)构造用于在使用所述处理信号(108)的情况下同时或在至少一个另外的时刻产生与所述第一复用信号(118)和/或所述第二复用信号(120)不同的至少一个另外的复用信号(124),其中,所述存储装置(112)具有用于缓存所述另外的复用信号(124)的时间限界的积分值的至少一个另外的存储单元(122)。

11.一种图像传感器(100),所述图像传感器具有根据上述权利要求中任一项所述的像素单元(102)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗伯特·博世有限公司,未经罗伯特·博世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710569830.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top