[发明专利]一种OLED蒸镀用掩膜板及制备方法有效

专利信息
申请号: 201710571551.7 申请日: 2017-07-13
公开(公告)号: CN107164726B 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 王志东;吕振华;邱云 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 oled 蒸镀用掩膜板 制备 方法
【说明书】:

发明提供了一种OLED蒸镀用掩膜板及制备方法,用以提高OLED显示产品的分辨率,以及扩大OLED蒸镀用掩膜板的选材范围,本发明提供的一种OLED蒸镀用掩膜板,包括:基板,所述基板上设有呈矩阵排列的多个开口,每个所述开口的图案形状与单个像素单元的有机发光层的图案形状一致,每个所述开口的内壁上设置有电镀层,以缩小所述开口的图案大小至单个像素单元的有机发光层的图案大小。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种OLED蒸镀用掩膜板及制备方法。

背景技术

有机电致发光显示面板(Organic Electroluminesecent Display,OLED)相对于液晶显示屏(Liquid Crystal Display,LCD),具有自发光、发光效率高、功耗低、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点,被认为是下一代显示技术。

在OLED制造技术中,参见图1,其有机功能层通常采用精细金属掩膜板01(FineMetal Mask,FMM)真空蒸镀制备,FMM质量的好坏直接关系到屏幕的显示效果。随着显示技术的发展,人们对显示产品的分辨率要求越来越高,而由于受到目前工艺所限,FMM中开口的大小受到限制,很难做到很小(例如几个μm),从而限制OLED显示面板的像素大小,进而影响OLED显示产品的分辨率,例如硅基OLED微显示面板,其像素一般为5μm左右的大小,其蒸镀用掩膜板通常很难制作。并且采用其它材质的基板制作OLED蒸镀用掩膜板也存在相同的问题,因此,现有的OLED蒸镀用掩膜板的选材范围不广,通常采用Ni/Co或Ni/Fe等贵金属合金材料制成FMM。

基于此,如何提高OLED显示产品的分辨率,以及扩大OLED蒸镀用掩膜板的选材范围,是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明实施例提供了一种OLED蒸镀用掩膜板及制备方法,用以提高OLED显示产品的分辨率,以及扩大OLED蒸镀用掩膜板的选材范围。

本发明实施例提供的一种OLED蒸镀用掩膜板,包括:基板,所述基板上设有呈矩阵排列的多个开口,每个所述开口的图案形状与单个像素单元的有机发光层的图案形状一致,每个所述开口的内壁上设置有电镀层,以缩小所述开口的图案大小至单个像素单元的有机发光层的图案大小。

本发明实施例提供的OLED蒸镀用掩膜板,包括:基板,所述基板上设有呈矩阵排列的多个开口,每个所述开口的图案形状与单个像素单元的有机发光层的图案形状一致,每个所述开口的内壁上设置有电镀层,以缩小所述开口的图案大小至单个像素单元的有机发光层的图案大小,通过在开口的内壁上设置电镀层,可以缩小开口的图案大小至单个像素单元的有机发光层的图案大小,这样就可以制作像素更小的OLED显示面板,从而可以提高OLED显示产品的分辨率,并且上述缩小开口尺寸的方法并不受材料的影响,因此可以选用其它的材料用于制作OLED蒸镀用掩膜板,从而扩大了OLED蒸镀用掩膜板的选材范围。

较佳地,所述电镀层包括:设置在所述开口的内壁上的填充层。

较佳地,所述填充层的材料为金属。

较佳地,所述电镀层还包括:设置在所述开口的内壁和所述填充层之间的种子层。

较佳地,所述种子层的材料为金属。

较佳地,所述种子层的厚度为10-200nm。

较佳地,所述基板的材质为玻璃。

由于本发明实施例提供的OLED蒸镀用掩膜板中基板的材质为玻璃,这样可以避免现有技术中的OLED蒸镀用掩膜板需由贵金属合金材料制成,价格昂贵,生产成本居高不下的缺点,从而有利于工厂的大规模生产。

本发明实施例还提供了一种OLED蒸镀用掩膜板的制备方法,包括:

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