[发明专利]一种亚波长反射式一维金属波片的制备方法有效
| 申请号： | 201710572342.4 | 申请日： | 2015-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN107203018B | 公开（公告）日： | 2019-07-26 |
| 发明（设计）人： | 王钦华;胡敬佩;李瑞彬;赵效楠;王淼;陈玲华;许富洋;曹冰 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 陶海锋;孙周强 |
| 地址： | 215137 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 介质光栅 金属层 波片 反射式 亚波长 制备 光学传感系统 集成光学系统 纳米光子器件 四分之一波片 金属 光栅结构 光栅金属 纳米介质 层间距 反射率 厚度比 介质层 金 银 占空比 波段 制作 应用 | ||
1.一种亚波长反射式一维金属波片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：首先，在介质材料上涂光刻胶；然后经曝光显影，再刻蚀光刻胶，接着去除残余光刻胶得到纳米介质光栅；最后，在纳米介质光栅上设置金属层，即得到亚波长反射式一维金属波片；所述亚波长反射式一维金属波片，包括纳米介质光栅及位于所述纳米介质光栅上的金属层；所述金属层与所述纳米介质光栅之间无间隙；所述金属层上表面设有类光栅结构；所述纳米介质光栅的周期为80～350nm，占空比为0.3～0.8，厚度为50～200nm。
2.根据权利要求1所述亚波长反射式一维金属波片的制备方法，其特征在于：所述金属层连续。
3.根据权利要求1所述亚波长反射式一维金属波片的制备方法，其特征在于：所述金属为金、银、铝或者镉。
4.根据权利要求3所述亚波长反射式一维金属波片的制备方法，其特征在于：所述金属为铝。
5.根据权利要求1所述亚波长反射式一维金属波片的制备方法，其特征在于：采用磁控溅射方式在所述纳米介质光栅上设置金属层。
6.根据权利要求1所述亚波长反射式一维金属波片的制备方法，其特征在于：所述纳米介质光栅的介质为SiO2、MgF2或者PMMA。
7.根据权利要求1所述亚波长反射式一维金属波片的制备方法，其特征在于：所述纳米介质光栅的周期为250～300nm，占空比为0.4～0.5，厚度为100～120nm。
8.根据权利要求1所述亚波长反射式一维金属波片的制备方法，其特征在于：采用双光束曝光显影；用反应离子束刻蚀光刻胶；利用丙酮去除残余光刻胶；采用磁控溅射方式在所述纳米介质光栅上设置金属层。
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