[发明专利]柔性电子玻璃透明导电氧化物薄膜电路制备方法

权利要求书

1.一种柔性电子玻璃透明导电氧化物薄膜电路制备方法，其特征在于，所述的透明导电氧化物薄膜电路沉积在25-100微米可弯曲柔性玻璃上而不是当前的刚性玻璃上；

制备方法包括如下步骤：

步骤1.对可弯曲的柔性玻璃基体进行超声清洗、烘干；放入到真空卷对卷磁控溅射镀膜机中进行等离子清洗；

步骤2.将带有电路塑料的模板用卷对卷贴膜机压贴到柔性玻璃上；

步骤3.将贴有电路塑料模板的柔性玻璃放到真空卷对卷磁控溅射镀膜机的放卷器上，柔性玻璃的一端接到收卷器上；

步骤4.抽真空到10^-6到10^-8Torr；根据不同透明氧化物的特性，调节好功率10-30kW ，充入氩气30-100SCCM，保持真空度2-50mTorr,用平面靶材或圆筒旋转靶材进行磁控溅射原子镀膜；

步骤5.将镀有透明氧化物电路图案的柔性玻璃在120-180℃温度下进行调质处理；

步骤6.对柔性玻璃上的透明导电氧化物电路进行厚度、方阻进行质量；

步骤7.从真空磁控溅射机里取出收卷柔性玻璃去除电路塑料模板并进行表面检查确保没有裂痕，然后进行保护贴膜；

步骤8.用空心模板和丝网印刷做成一个四线触摸屏面板；打印出银电极和点间隔，将上面板和下面板小心组装形成透明导电氧化物柔性触摸屏电子仪器。

2.根据权利要求1所述的柔性电子玻璃透明导电氧化物薄膜电路制备方法，其特征在于，该透明导电氧化物薄膜电路厚度为50-500纳米；导电方阻为5-500欧姆/□；透光率75-95％。

3.根据权利要求1所述的柔性电子玻璃透明导电氧化物薄膜电路制备方法，其特征在于，透明导电氧化物原料为透明导电氧化物平面或圆筒旋转磁控溅射靶材，即铟锡氧化物，铝掺杂氧化锌，氟锡氧化物，镓掺杂氧化锌，铟镓掺杂氧化锌或锑锡氧化物。