[发明专利]真空沉积腔室

权利要求书

1.一种真空沉积腔室，包括：

材料沉积设备(300)，所述材料沉积设备(300)具有两个或更多个分配管道，各分配管道具有沿着相应分配管道的长度而设置的多个喷嘴，各分配管道的横截面包括对应于三角形的一部分的主要区段，以用于以本质上平行的方式减少壁面对基板的宽度；以及

基板支撑件，用于在沉积期间支撑所述基板，其中所述材料沉积设备的所述分配管道中的至少一者与所述基板支撑件之间的距离小于250mm。

2.如权利要求1所述的真空沉积腔室，其中所述分配管道的所述横截面具有圆角。

3.如权利要求1或2任一项所述的真空沉积腔室，其中所述壁的所述宽度为各分配管道的所述横截面的最大维度的30％或小于30％。

4.如权利要求1至2任一项所述的真空沉积腔室，其中各分配管道具有涵盖约30°或小于30°的角度的已蒸发的材料的分配。

5.如权利要求1至2任一项所述的真空沉积腔室，其中邻近的分配管道的喷嘴彼此之间的距离小于50mm。

6.如权利要求5所述的真空沉积腔室，其中邻近的分配管道的喷嘴之间的距离为第一分配管道的第一喷嘴的第一中心点与第二分配管道的第二喷嘴的第二中心点之间的距离。

7.如权利要求1至2任一项所述的真空沉积腔室，其中在第一分配方向上从所述两个或更多个分配管道中的第一分配管道的一或多个第一喷嘴释放第一已蒸发的材料，所述第一分配方向与平行于所述两个或更多个分配管道中的第二分配管道的一个或多个第二喷嘴的第二分配方向偏差高达5°。

8.如权利要求5所述的真空沉积腔室，其中所述多个第一喷嘴的一或多个喷嘴的长度对尺寸比为等于或大于2:1。

9.如权利要求8所述的真空沉积腔室，其中所述比形成已蒸发的有机材料的cos⁶形蒸气羽流。

10.如权利要求1至2任一项所述的真空沉积腔室，其中至少一个第一分配管道为用于已蒸发的有机材料的分配管道。

11.如权利要求1至2任一项所述的真空沉积腔室，进一步包括在所述基板支撑件(126)与所述分配管道之间的像素掩模支撑件。

12.如权利要求11所述的真空沉积腔室，进一步包括：在所述像素掩模支撑件上的像素掩模，其中所述像素掩模(132)包括像素开口，所述像素开口具有50μm x 50μm或小于50μmx 50μm的尺寸。

13.如权利要求1至2任一项所述的真空沉积腔室，其中用于所述材料沉积设备(300)的材料沉积布置(100)能够在所述真空沉积腔室(110)中移动。

14.如权利要求1至2任一项所述的真空沉积腔室，其中所述两个或更多个分配管道在实质上垂直的方向中延伸。