[发明专利]联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂、正性光刻胶组合物和负性光刻胶组合物有效
| 申请号： | 201710578532.7 | 申请日： | 2017-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN107324978B | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 陈金平;李嫕;于天君;曾毅 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | C07C43/225 | 分类号： | C07C43/225;C07C43/21;C07C39/17;C07C271/12;C07C69/712;C07D309/12;G03F7/039;G03F7/038 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 赵晓丹 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 联苯 取代 金刚 衍生物 分子 树脂 光刻 组合 | ||
1.一种联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂，其特征在于，具有如下式(I)或式(II)所示的分子结构：
其中，式(I)中取代基Ra1～Ra20、式(II)中取代基Rb1～Rb15各自独立地表示氢原子、羟基、甲氧基或酸敏感性取代基，式(I)中的取代基Ra1～Ra20相同或不同，式(II)中的取代基Rb1～Rb15相同或不同，同一苯环上的多个取代基不能同时为氢原子。
2.根据权利要求1所述的一种联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂，其特征在于，所述酸敏感性取代基为烷烃类碳酸酯取代基、烷烃类α-醋酸酯取代基或环状缩醛取代基。
3.根据权利要求2所述的一种联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂，其特征在于，所述烷烃类碳酸酯取代基结构为：其中Cn表示碳原子数不大于12的烷基，表示取代基与主体结构中苯环的连接键。
4.根据权利要求2所述的一种联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂，其特征在于，所述烷烃类α-醋酸酯取代基的结构为其中Cn表示碳原子数不大于12的烷基，表示取代基与主体结构中苯环的连接键。
5.根据权利要求2所述的一种联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂，其特征在于，所述环状缩醛取代基的结构为其中m为1至4的任一整数，表示取代基与主体结构中苯环的连接键。
6.根据权利要求1或2所述的一种联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂，其特征在于，所述酸敏感性取代基的结构选自
中的一种；
其中，表示取代基与主体结构中苯环的连接键。
7.一种正性光刻胶组合物，其特征在于，所述正性光刻胶组合物包括如权利要求1～6任一所述联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂；其中，所述联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂为式(I)时，其取代基Ra1～Ra20全部或部分为酸敏感性取代基；所述联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂为式(II)时，其取代基Rb1～Rb15全部或部分为酸敏感性取代基。
8.根据权利要求7所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，所述正性光刻胶组合物中，联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂为式(I)时，其取代基Ra1～Ra20中酸敏感性取代基的数目至少占取代基总数的25％；所述正性光刻胶组合物中，联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂为式(II)时，其取代基Rb1～Rb15中酸敏感性取代基的数目至少占取代基总数的25％。
9.根据权利要求7或8所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，按质量百分数计，所述正性光刻胶组合物包括：
联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂 1～10wt％，
光酸产生剂 0.01～1wt％，
光刻胶溶剂 余量。
10.一种负性光刻胶组合物，其特征在于，所述负性光刻胶组合物包括如1～6任一所述联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂；其中，所述联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂为式(I)时，其取代基Ra1～Ra20全部或部分为羟基；所述联苯取代金刚烷衍生物单分子树脂为式(II)时，其取代基Rb1～Rb15全部或部分为羟基。
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