[发明专利]存储图像处理程序的介质、图像处理方法及图像处理装置有效

专利信息
申请号: 201710580487.9 申请日: 2017-07-17
公开(公告)号: CN107817246B 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 野中悠介;濑川英吾 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88;G06T7/00;G06K9/46;G06T11/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 杜诚;李德山
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 存储 图像 处理 程序 介质 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种存储使计算机执行处理的图像处理程序的计算机可读存储介质,所述处理包括:

通过二值化使用成像装置捕获的图像来识别暗区;

通过对所识别的暗区进行细线化来生成与所述暗区对应的线图像;

识别第一多对像素,所述第一多对像素被包括在形成所生成的线图像的像素组中并且以等于或大于预定阈值的值彼此之间分离开;

计算连接形成所述第一多对像素中的各个对的像素的线的梯度的第一方差;

识别第二多对像素,所述第二多对像素被包括在形成所述生成的线图像的所述像素组中并且以小于所述预定阈值的值彼此之间分离开;

计算连接形成所述第二多对像素中的各个对的像素的线的梯度的第二方差;以及

基于所述第一方差和所述第二方差评估所述暗区。

2.根据权利要求1所述的存储介质,

其中,如果所述第一方差小于第一标准方差并且所述第二方差大于第二标准方差,则所述评估将所述暗区评估为裂缝。

3.根据权利要求2所述的存储介质,所述处理还包括:

基于所述暗区的宽度调整所述标准方差。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的存储介质,所述处理还包括:

当在所述暗区的识别中识别到第一暗区和第二暗区时,通过将所述第一暗区和所述第二暗区延伸至所延伸的第一暗区和所延伸的第二暗区的交点,组合所述第一暗区与所述第二暗区,

其中,来自属于通过对所述第一暗区进行细线化而生成的第一线图像的像素的第一像素和来自属于通过对所述第二暗区进行细线化而生成的第二线图像的像素的第二像素被识别,其中,在属于所述第一线图像的像素与属于所述第二线图像的像素之间的距离之中,所述第一像素与所述第二像素之间的距离是最短的,并且所述交点被确定为从所述第一像素沿所述第一线图像延伸的方向延伸的直线与从所述第二像素沿所述第二线图像延伸的方向延伸的直线的交叉点。

5.根据权利要求4所述的存储介质,

其中,如果所述第一像素与所述第二像素之间的距离小于预定距离,则所述组合将所述第一暗区与所述第二暗区组合成单个暗区。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的存储介质,所述处理还包括:

合成使用所述成像装置捕获的多个图像以生成合成图像,

其中,对暗区的所述识别是从所述合成图像中识别所述暗区。

7.根据权利要求2至3中任一项所述的存储介质,所述处理还包括:

基于评估所述暗区的结果,输出指示被评估为所述裂缝的所述暗区的位置的图像。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的存储介质,

其中,所述成像装置安装在无人驾驶飞行器上。

9.根据权利要求2至3中任一项所述的存储介质,所述处理还包括:

基于评估所述暗区的过去的结果和评估所述暗区的当前的结果,确定被评估为所述裂缝的所述暗区的面积是否已经增加,并且输出所述确定的结果。

10.一种由计算机执行的图像处理方法,包括:

通过二值化使用成像装置捕获的图像识别暗区;

通过对所识别的暗区进行细线化而生成与所述暗区对应的线图像;

识别第一多对像素,所述第一多对像素被包括在形成所生成的线图像的像素组中并且以等于或大于预定阈值的值彼此之间分离开;

计算连接形成所述第一多对像素中的各个对的像素的线的梯度的第一方差;

识别第二多对像素,所述第二多对像素被包括在形成所述生成的线图像的所述像素组中并且以小于所述预定阈值的值彼此之间分离开;

计算连接形成所述第二多对像素中的各个对的像素的线的梯度的第二方差;以及

基于所述第一方差和所述第二方差评估所述暗区。

11.一种图像处理装置,包括:

存储器,以及

处理器,其耦接至所述存储器,并且被配置成执行处理,所述处理包括:

通过二值化使用成像装置捕获的图像来识别暗区;

通过对所识别的暗区进行细线化而生成与所述暗区对应的线图像;

识别第一多对像素,所述第一多对像素被包括在形成所生成的线图像的像素组中并且以等于或大于预定阈值的值彼此之间分离开;

计算连接形成所述第一多对像素中的各个对的像素的线的梯度的第一方差;

识别第二多对像素,所述第二多对像素被包括在形成所述生成的线图像的所述像素组中并且以小于所述预定阈值的值彼此之间分离开;

计算连接形成所述第二多对像素中的各个对的像素的线的梯度的第二方差;以及

基于所述第一方差和所述第二方差评估所述暗区。

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