[发明专利]一种水汽氧气阻隔膜及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学用薄膜，尤其涉及一种水汽氧气阻隔膜及其制备方法。

背景技术

如今的显示技术中，液晶显示使用的光源都是以设备背面的一组发光二极管作为光源，或者采用蓝光LED和稀土荧光粉相配合以达到显示不同色彩的效果。最终发出的白光颜色纯度不高、色彩饱和度低，只能实现70～75％NTSC的色域。

随着技术的发展，引入了量子点膜技术和OLED技术，较大的提高色域，使得显示设备的色域能够达到100％全色域甚至更高，具有更好的色彩表现力。OLED和量子点对环境中的水汽和氧气非常敏感，阻隔膜的使用尤为重要。OLED可用于柔性显示，是未来的一大趋势，而OLED对阻隔膜的水汽氧气阻隔性和热稳定性要求更加苛刻。阻隔膜的性能关系显示设备的使用性能和寿命。

目前，阻隔膜主要采用真空蒸镀方法单层制备，制备过程中易产生连续性缺陷，制备的水氧阻隔膜的均匀性及在基材的附着力较差，对水汽氧气的阻隔性一般。

发明内容

为了提高水汽氧气阻隔膜的水汽氧气阻隔性和耐热性，本发明提供一种水汽氧气阻隔膜及其制备方法。所述水汽氧气阻隔膜依次包括基材层，第一有机阻隔层、第一无机阻隔层、第二有机阻隔层、第二无机阻隔层、第三有机阻隔层和第三无机阻隔层。本发明提供的水汽氧气阻隔膜(简称水氧阻隔膜)具有较高的水汽氧气阻隔性和耐热性，可用于对热稳定性要求较高的OLED显示设备中，能够提高OLED显示设备的使用寿命。

为了解决上述技术问题，本发明提供下述技术方案：

本发明提供一种水汽氧气阻隔膜，所述水汽氧气阻隔膜依次包括基材层，第一有机阻隔层、第一无机阻隔层、第二有机阻隔层、第二无机阻隔层、第三有机阻隔层和第三无机阻隔层。

进一步的，所述第一有机阻隔层在基材层的上表面，所述第一无机阻隔层在第一有机阻隔层的上表面，所述第二有机阻隔层在第一无机阻隔层的上表面，所述第二无机阻隔层在第二有机阻隔层的上表面，所述第三有机阻隔层在第二无机阻隔层的上表面，所述第三无机阻隔层在第三有机阻隔层的上表面。

在所述的水汽氧气阻隔膜中，所述有机阻隔层印刷在基材层或无机阻隔层上表面。

进一步的，所述有机阻隔层采用喷墨印刷涂布液的方法制备，温度控制在80-120℃。

进一步的，在所述的水汽氧气阻隔膜中，所述第一、第二和第三有机阻隔层的厚度分别为1-5μm。

进一步的，所述第一有机阻隔层的厚度优选为2-4μm。

进一步的，所述第二有机阻隔层的厚度优选为2-4μm。

进一步的，所述第三有机阻隔层的厚度优选为2-4μm。

进一步的，所述第一有机阻隔层的厚度最优选为2-3μm。

进一步的，所述第二有机阻隔层的厚度最优选为2-3μm。

进一步的，所述第三有机阻隔层的厚度最优选为2-3μm。

进一步的，在所述的水汽氧气阻隔膜中，所述第一、第二和第三无机阻隔层的厚度分别为10-200nm。

进一步的，所述第一无机阻隔层的厚度优选为100-200nm。

进一步的，所述第二无机阻隔层的厚度优选为100-200nm。

进一步的，所述第三无机阻隔层的厚度优选为100-200nm。

进一步的，所述第一无机阻隔层的厚度最优选为150-170nm。

进一步的，所述第二无机阻隔层的厚度最优选为150-170nm。

进一步的，所述第三无机阻隔层的厚度最优选为150-170nm。

进一步的，在所述的水汽氧气阻隔膜中，所述基材层为透明高分子薄膜，所述基材层的厚度为50-200μm。

进一步的，所述基材层的厚度优选为50-150μm。

进一步的，所述基材层的厚度优选为120-150μm。

进一步的，所述基材层选自聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或聚偏氯乙烯(PVDF)中的一种。

进一步的，所述基材层材料优选为PEN或PVDF。

进一步的，所述基材层材料优选为PEN。

进一步的，在所述的水汽氧气阻隔膜中，所述第一、第二和第三有机阻隔层的厚度相同或不同。

进一步的，所述第一、第二和第三有机阻隔层的材料选自聚偏二氯乙烯(PVDC)或聚偏氯乙烯(PVDF)中的一种。

进一步的，所述有机阻隔层先配置成涂布液(简称溶液)，所述涂布液包括20％的聚偏乙烯树脂，0.5～1％的流平剂，79-79.5％的溶剂。