[发明专利]研磨台清洗装置及其清洗方法

权利要求书

1.一种研磨台清洗装置，用于清洗研磨台上的碱性研磨液，所述研磨台用于研磨晶元，其特征在于，所述研磨台清洗装置包括：

第一清洗箱，用于储存去离子水；

第二清洗箱，用于储存酸性溶液；

输送管路，与所述第一清洗箱和所述第二清洗箱均连接，用于输送所述第一清洗箱中的去离子水和所述第二清洗箱中的酸性溶液，并喷洒在所述研磨台上，以清洗所述研磨台上的碱性研磨液。

2.如权利要求1所述的研磨台清洗装置，其特征在于，所述酸性溶液包括盐酸溶液、氟化氢溶液或缓冲氢氟酸溶液中的一种或几种。

3.如权利要求1所述的研磨台清洗装置，其特征在于，所述输送管路包括中央管路，所述中央管路的一端与所述第一清洗箱和所述第二清洗箱均连通，所述中央管路的另一端位于所述研磨台的中心位置。

4.如权利要求3所述的研磨台清洗装置，其特征在于，所述输送管路还包括边缘管路，所述边缘管路的一端与所述中央管路连通，所述边缘管路的另一端位于所述研磨台的边缘位置。

5.如权利要求1所述的研磨台清洗装置，其特征在于，所述输送管路上设置有第一开关控制阀，用于控制去离子水的输送，所述第一开关控制阀位于所述第一清洗箱的出水口。

6.如权利要求1所述的研磨台清洗装置，其特征在于，所述输送管路上设置有第二开关控制阀，用于控制酸性溶液的输送，所述第二开关控制阀位于所述第二清洗箱的出水口。

7.如权利要求1所述的研磨台清洗装置，其特征在于，还包括：

第一水泵，用于将所述第一清洗箱中的去离子水泵入所述输送管路；

第二水泵，用于将所述第二清洗箱中的酸性溶液泵入所述输送管路；

所述第一水泵位于所述第一清洗箱中，所述第二水泵位于所述第二清洗箱中。

8.如权利要求1所述的研磨台清洗装置，其特征在于，所述酸性溶液的pH值的范围为5～6.5。

9.一种研磨台的清洗方法，所述研磨台用于研磨晶元，其特征在于，包括以下步骤：

S1，同时输送第一清洗箱内的去离子水和第二清洗箱内的酸性溶液，并利用输送管路喷洒到所述研磨台上进行清洗；

S2，清洗第一预设时间停止输送酸性溶液，仅用去离子水对研磨台清洗；

S3，清洗第二预设时间后同时停止输送去离子水和酸性溶液。

10.如权利要求9所述的研磨台的清洗方法，其特征在于，所述第一预设时间为3秒～5秒。

11.如权利要求9所述的研磨台的清洗方法，其特征在于，所述第二预设时间为3秒～5秒。