[发明专利]用于低摩擦结合活塞密封件的密封唇

权利要求书

1.一种用于低摩擦结合活塞密封件(100)的环形密封件，所述环形密封件具有中心轴线并且包括：

环形密封件主体(50)，所述环形密封件主体(50)绕着所述中心轴线对称地定位，和

环形密封唇(10)，所述环形密封唇(10)与所述环形密封件主体(50)一体成型并且具有：

下部密封唇主体(52)，和

顶部密封唇(12)，所述顶部密封唇(12)具有：

第一径向唇厚度(T1)，

第二径向唇厚度(T2)，

径向唇高度(H)，和

径向唇总压力接收厚度(T3)，

其中，所述第二径向唇厚度(T2)与所述第一径向唇厚度(T1)的比率小于1.00，

所述径向唇高度(H)与所述第二径向唇厚度(T2)的比率大于或等于0.65，

所述径向唇总压力接收厚度(T3)小于或等于0.8mm，

所述第一径向唇厚度(T1)小于或等于0.7mm，

所述径向唇总压力接收厚度(T3)由参考点P1与参考点P3之间的水平距离确定，

所述第一径向唇厚度(T1)由参考点P1与参考点P2之间的水平距离确定，

所述径向唇高度(H)由第一水平线(X1)与第二水平线(X2)之间的竖直距离以及由参考点P1和参考点P4确定，

所述第二径向唇厚度(T2)由参考点P3与参考点P4之间的水平距离确定，

P1、P2、P3和P4都位于环形密封唇的外表面上，

P1位于第一水平线(X1)与第一径向唇半径(R1)的弧的中间的位于最左边的竖直切点的交叉点处，P2位于第二径向唇半径(R2)与第一水平线(X1)的交叉点处，P3位于顶部密封唇(12)的基部(14)的沿着第二水平线(X2)的右端点处，P4位于顶部密封唇(12)的基部(14)的沿着第二水平线(X2)的左端点处，第二水平线(X2)在顶部密封唇(12)的基部(14)处，并且

所述第一径向唇半径(R1)的中心点还位于第一水平线(X1)上。

2.一种用于低摩擦结合活塞密封件的环形密封件，所述环形密封件具有中心轴线并且包括：

环形密封件主体，所述环形密封件主体绕着所述中心轴线对称地定位，和

环形密封唇，所述环形密封唇与所述环形密封件主体一体成型并且具有：

下部密封唇主体，和

顶部密封唇，所述顶部密封唇具有：

第一径向唇厚度(T1)，

第二径向唇厚度(T2)，其中

所述第二径向唇厚度(T2)与所述第一径向唇厚度(T1)之间的比率小于1.00，

所述第一径向唇厚度(T1)由参考点P1与参考点P2之间的水平距离确定，所述第二径向唇厚度(T2)由参考点P3与参考点P4之间的水平距离确定，P1位于第一水平线(X1)与第一径向唇半径(R1)的弧的中间的位于最左边的竖直切点的交叉点处，所述第一径向唇半径(R1)的中心点还位于第一水平线(X1)上，P2位于第二径向唇半径(R2)与第一水平线(X1)的交叉点处，第二水平线(X2)在顶部密封唇的基部处，P3位于顶部密封唇的基部的沿着第二水平线(X2)的右端点处，P4位于顶部密封唇的基部的沿着第二水平线(X2)的左端点处。

3.根据权利要求2所述的用于低摩擦结合活塞密封件的环形密封件，其特征在于，还包括径向唇高度(H)，其中

径向唇高度(H)与第二径向唇厚度(T2)的比率大于或等于0.65，

所述径向唇高度(H)由参考点P1与参考点P4之间的竖直距离确定。

4.根据权利要求2所述的用于低摩擦结合活塞密封件的环形密封件，其特征在于，还包括径向唇总压力接收厚度(T3)，所述径向唇总压力接收厚度(T3)由参考点P1与参考点P3之间的水平距离确定，所述径向唇总压力接收厚度(T3)小于或等于0.8mm。

5.根据权利要求2所述的用于低摩擦结合活塞密封件的环形密封件，其特征在于，所述第一径向唇厚度小于或等于0.7mm。