[发明专利]一种涂布检测修复装置及其方法有效
申请号: | 201710595274.3 | 申请日: | 2017-07-19 |
公开(公告)号: | CN107367516B | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
发明(设计)人: | 刘哲 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;B05C11/00 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 检测 修复 装置 及其 方法 | ||
一种涂布检测修复装置以及其对应的方法,检测单元与修复单元都集成于涂布机上,作为一个涂布‑检测‑修复的整体机台使用。当涂布机完成涂布工作后,检测单元采用微区透光率的手段对安放于涂布机上的承载基板和柔性基板进行检测,辨别并定位柔性基板中的气泡或粒子异物的存在;修复单元采用微波对检测定位的气泡进行局部加热,使气泡膨胀并移动至柔性基板表面溢出,并对需要后续修复或规避的缺陷进行标记定位,利用本装置的制造方法可以提高柔性显示屏制备的良品率,降低制造风险。
技术领域
本发明属于柔性显示装置制备领域,尤其涉及AMOLED屏幕的制备。
背景技术
柔性显示装置,尤其是AMOLED屏幕的制备中,柔性基板是其中至关重要的基础部分。作为承载基板,它需要具有很好的平整度、耐弯折性、耐高温特性、抗腐蚀性以及很好的阻隔水氧的特性。
在柔性基板通常采用的制备过程中,涂布工序产生的气泡往往是最多的,例如原液中本身存在的但是过程中没有完全去除的气泡,以及涂布过程中基板上的异物造成的气泡等,直径较大的气泡和原液中本身存在的或者在柔性基板涂布过程中引入的直径较大的异物粒子一样,在后续的高温成膜、退火或者准分子激光晶化对a-Si结晶的过程中,很难再利用基板清洗等手段除去,也很难被后续气相沉积的无机膜层或者其他涂布的有机膜层完全覆盖,容易作为能量集中的“奇点”造成严重的破埙或者烧蚀,使得基板无法起到水氧阻隔的作用,同时对后续的支撑机台也会引入污染源,增加制程风险,甚至影响设备安全。
因此,对柔性基板涂布过程中的粒子污染以及气泡的存在需要严密的监控。现有的检测手段,是采用自动光学检测机(AOI),利用CCD扫描技术对所谓缺陷进行检测。但此种检测方法效率不高,较容易出错;另一方面自动光学检测机结构较复杂,需要独立运行,在柔性基板涂布后需要设置转运工序,转运途中容易受到二次污染。
发明内容
本发明的目的在于提供一种涂布检测修复装置以及进行柔性基板检测修复的方法。
本发明是这样实现的,一种涂布检测修复装置,将检测单元集成在涂布机上,所述检测单元采用微区透光率方法进行检测,检测对象为所述涂布机上待检测产品进行检测,所述待检测产品包括承载基板和贴合至所述承载基板表面的柔性基板,所述检测单元包括光源、光学模块、积分球和光谱仪,所述光学模块将所述光源发出的光垂直入射到所述柔性基板表面,所述光透过所述柔性基板和承载基板后被所述积分球收集,再由所述积分球传输给所述光谱仪对光量进行分析,以判定承载基板和柔性基板之间是否存在缺陷。
其中,所述光源为高亮氙灯或高压汞灯。
其中,所述光学模块为准直或者聚焦模块。
其中,所述光谱仪为宽光谱仪。
其中,所述柔性基板为未固化状态,该涂布检测修复装置还包括设置于所述涂布机上的修复单元,所述修复单元通过发射所述微波对检测到的所述缺陷进行修复。
其中,所述修复单元还包括微波发生器、功率调制单元、微波分束装置和微波发射天线,所述功率调制单元将所述微波发生器产生的微波能量维持一定时序,经所述微波分束装置调制后由所述微波发射天线向所述柔性的缺陷发出微波。
其中,所述微波分束装置包括隔离器或衰减器中的至少一种,用于提取当前的所述微波信号。
其中,所述修复单元还包括反馈单元、数据处理单元和标记单元,所述反馈单元接收所述微波信号,所述数据处理单元控制修复时序,对所述反馈单元接收的所述微波信号同进行分析,判断修复后的产品是否存在剩余缺陷,并计算缺陷位置和物理特征,所述标记单元标记所述剩余缺陷的物理位置。
运用本发明的检测及修复装置进行的检测和修复方法,包括以下步骤:
在涂布机上放置待测产品,所述待检测产品包括承载基板和贴合至所述承载基板表面的柔性基板;
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