[发明专利]一种合金刀具表面金刚石梯度膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710598612.9 申请日: 2017-07-21
公开(公告)号: CN107326339B 公开(公告)日: 2019-02-19
发明(设计)人: 陆峰;查丽琼;闫广宇;王筱晴;吴玉厚 申请(专利权)人: 沈阳建筑大学
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27;C23C16/44
代理公司: 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 代理人: 刘晓岚
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 金刚石 金刚石薄膜 合金刀具 纳米晶金刚石薄膜 制备 刀具基体 梯度膜 微米晶 干燥处理 接种 热丝化学气相沉积 预处理 晶粒 工作寿命 金刚石膜 晶粒结构 均匀变化 依次减小 由内向外 梯度模 悬浮液 真空腔 沉积 刀具 道具 取出 室内 生长
【权利要求书】:

1.一种合金刀具表面金刚石梯度膜的制备方法,其特征在于,所述的金刚石梯度膜包括3~5层微米晶金刚石薄膜和一层纳米晶金刚石薄膜,所述的微米晶金刚石薄膜晶粒尺寸为1~5μm,所述的纳米晶金刚石薄膜晶粒尺寸为10~100nm,刀具基体表面向外依次为3-5层微米晶金刚石薄膜和1层纳米晶金刚石薄膜,且各层金刚石膜晶粒尺寸由内向外呈梯度依次减小;制备方法具体包括以下步骤:

(1)取合金刀具,对基体进行预处理后,置于金刚石悬浮液中进行刀具表面接种处理,接种处理后取出,进行干燥处理;

(2)将干燥处理后的刀具基体置于热丝化学气相沉积设备的真空腔室内,在所述的刀具基体表面依次沉积生长3-5层微米晶金刚石薄膜和1层纳米晶金刚石薄膜,其中:沉积所述的3~5层微米晶金刚石薄膜与1层纳米晶金刚石薄膜的工艺条件为:真空室气压为3~5kPa,加热温度2000~2600℃,基底温度750~850℃,甲烷浓度为1~5%,气流量400~800sccm,加热丝与基底上表面间距8~12mm,相邻加热丝排布间距为5~20mm,且甲烷浓度随着金刚石薄膜层的沉积呈递增趋势。

2.根据权利要求1所述的合金刀具表面金刚石梯度膜的制备方法,其特征在于,所述的微米晶金刚石薄膜层数为3层,所述的3层微米晶金刚石薄膜晶粒尺寸,由刀具基体表面向外依次为:第1层金刚石薄膜晶粒尺寸为3~5μm,第2层金刚石薄膜晶粒尺寸为2~3μm,第3层金刚石薄膜晶粒尺寸为1~2μm。

3.根据权利要求1所述的合金刀具表面金刚石梯度膜的制备方法,其特征在于,所述的微米晶金刚石薄膜层数为4层,所述的4层微米晶金刚石薄膜晶粒尺寸,由刀具基体表面向外依次为:第1层金刚石薄膜晶粒尺寸为4~5μm,第2层金刚石薄膜晶粒尺寸为3~4μm,第3层金刚石薄膜晶粒尺寸为2~3μm,第4层金刚石薄膜晶粒尺寸为1~2μm。

4.根据权利要求1所述的合金刀具表面金刚石梯度膜的制备方法,其特征在于,所述的微米晶金刚石薄膜层数为5层,所述的5层微米晶金刚石薄膜晶粒尺寸,由刀具基体表面向外依次为:第1层金刚石薄膜晶粒尺寸为4~5μm,第2层金刚石薄膜晶粒尺寸为3~4μm,第3层金刚石薄膜晶粒尺寸为2~3μm,第4层金刚石薄膜晶粒尺寸为1.5~2μm;第5层金刚石薄膜晶粒尺寸为1~1.5μm。

5.根据权利要求1所述的合金刀具表面金刚石梯度膜的制备方法,其特征在于,所述的步骤(2)中,所述的微米晶金刚石薄膜的层数为3层,其中:

沉积第1层微米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C1为:1%≤C1<1.5%;

沉积第2层微米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C2为:1.5%≤C2<2%;

沉积第3层微米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C3为:2%≤C3<3%;

沉积第4层纳米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C4为:3%≤C4≤5%。

6.根据权利要求1所述的合金刀具表面金刚石梯度膜的制备方法,其特征在于,所述的步骤(2)中,所述的微米晶金刚石薄膜的层数为4层,其中:

沉积第1层微米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C1为:1%≤C1<1.3%;

沉积第2层微米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C2为:1.3%≤C2<1.5%;

沉积第3层微米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C3为:1.5%≤C3<2%;

沉积第4层微米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C4为:2%≤C4<3%;

沉积第5层纳米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C5为:3%≤C5≤5%。

7.根据权利要求1所述的合金刀具表面金刚石梯度膜的制备方法,其特征在于,所述的步骤(2)中,所述的微米晶金刚石薄膜的层数为5,其中:

沉积第1层微米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C1为:1%≤C1<1.3%;

沉积第2层微米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C2为:1.3%≤C2<1.5%;

沉积第3层微米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C3为:1.5%≤C3<2%;

沉积第4层微米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C4为:2%≤C4<2.5%;

沉积第5层微米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C5为:2.5%≤C5<3%;

沉积第6层纳米晶金刚石薄膜的甲烷浓度C6为:3%≤C6≤5%。

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