[发明专利]一种用于模分复用系统的超低衰减少模光纤

权利要求书

1.一种用于模分复用系统的超低衰减少模光纤，包括芯层和包层，其特征在于所述芯层的相对折射率差Δ1为0.02％～0.04％，半径R1为8.2～10μm；所述的包层由内向外依次包括第一内包层、下陷内包层、第二内包层和外包层，所述的第一内包层为紧密包绕芯层的内包层，相对折射率差Δ2为-0.36％～-0.33％，半径R2为11μm～15μm，所述的下陷内包层紧密包绕第一内包层，其相对折射率差Δ3为-0.85％～-0.6％，半径R3为16.5μm～22μm，所述的第二内包层紧密包绕下陷包层，其相对折射率差Δ4为-0.37％～-0.34％，半径R4为19μm～35μm，所述的外包层紧密围绕第二内包层，为纯二氧化硅玻璃层；所述光纤在1550nm波长支持4个稳定的LP传输模式，分别为LP01，LP11，LP21，LP02；

所述的相对折射率差为n_i和n₀分别为对应光纤各部分的折射率和纯二氧化硅玻璃的折射率。

2.按权利要求1所述的用于模分复用系统的超低衰减少模光纤，其特征在于所述的芯层为锗氟共掺的二氧化硅玻璃层。

3.按权利要求1或2所述的用于模分复用系统的超低衰减少模光纤，其特征在于所述光纤支持的四个模式在1550nm波长处的衰减系数均小于或等于0.170dB/km。

4.按权利要求1或2所述的用于模分复用系统的超低衰减少模光纤，其特征在于所述光纤在1550nm波长处各个模式的DGD绝对值的最大值小于或等于5ps/m。

5.按权利要求1或2所述的用于模分复用系统的超低衰减少模光纤，其特征在于所述光纤的LP01模式的有效面积为100～180μm²。

6.按权利要求1或2所述的用于模分复用系统的超低衰减少模光纤，其特征在于所述光纤的LP01模式在1550nm波长处的色散值小于或等于22ps/nm*km。