[发明专利]柔性基底及其制作方法、柔性显示面板和柔性显示装置有效

专利信息
申请号: 201710601838.X 申请日: 2017-07-21
公开(公告)号: CN107394041B 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 杨铭;刘刚;刘雪宁;胡天庆;李针英;禹少荣 申请(专利权)人: 武汉天马微电子有限公司
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;G09F9/30
代理公司: 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11603 代理人: 于淼
地址: 430074 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 柔性 基底 及其 制作方法 显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种柔性基底,其特征在于,包括第一柔性衬底、形成于所述第一柔性衬底上的无机阻挡层以及覆盖所述无机阻挡层的第二柔性衬底;

所述柔性基底包括多个子区域,所述多个子区域包括至少一个第一子区域和至少一个第二子区域;

所述第一柔性衬底与所述第二柔性衬底在所述第一柔性衬底的边缘接触;

沿着与所述第一柔性衬底的表面平行且由所述第一柔性衬底的几何中心向所述第一柔性衬底的边缘的方向上,所述第一子区域位于所述第二子区域靠近所述第一柔性衬底的边缘的一侧,所述第一子区域环绕所述第二子区域,位于所述第一子区域内的无机阻挡层的厚度大于位于所述第二子区域内的无机阻挡层的厚度。

2.根据权利要求1所述的柔性基底,其特征在于,所述多个子区域还包括至少一个第三子区域;

沿着与所述第一柔性衬底的表面平行且由所述第一柔性衬底的几何中心向所述第一柔性衬底的边缘的方向上,所述第三子区域位于所述第一子区域和所述第二子区域之间,位于所述第三子区域内的无机阻挡层的厚度大于位于所述第二子区域内的无机阻挡层的厚度,且位于所述第三子区域内的无机阻挡层的厚度小于位于所述第一子区域内的无机阻挡层的厚度。

3.根据权利要求2所述的柔性基底,其特征在于,沿着与所述第一柔性衬底的表面平行且由所述第一柔性衬底的几何中心向所述第一柔性衬底的边缘的方向上,位于各所述子区域内的无机阻挡层的厚度逐渐增大。

4.根据权利要求1所述的柔性基底,其特征在于,每个所述子区域包括多个无机阻挡块,且相邻两个无机阻挡块之间具有间隙。

5.根据权利要求4所述的柔性基底,其特征在于,相邻两个无机阻挡块之间的间隙中填充有胶材。

6.根据权利要求5所述的柔性基底,其特征在于,所述胶材的弹性模量大于所述第一柔性衬底和所述第二柔性衬底的弹性模量。

7.根据权利要求4所述的柔性基底,其特征在于,其特征在于,所述柔性基底具有至少一个弯折区;

所述弯折区位于两个所述无机阻挡块之间的间隙。

8.根据权利要求1所述的柔性基底,其特征在于,所述无机阻挡层覆盖各所述子区域,各所述子区域之间不具有间隙,且位于同一个子区域内的无机阻挡层的厚度均一。

9.一种柔性基底的制作方法,其特征在于,所述柔性基底包括多个子区域,所述多个子区域包括至少一个第一子区域和至少一个第二子区域,所述方法包括:

提供一刚性基板;

在所述刚性基板上形成第一柔性衬底;

在所述第一柔性衬底上形成厚度不均一的无机阻挡层,其中,沿着与所述第一柔性衬底的表面平行且由所述第一柔性衬底的几何中心向所述第一柔性衬底的边缘的方向上,所述第一子区域位于所述第二子区域靠近所述第一柔性衬底的边缘的一侧,所述第一子区域环绕所述第二子区域,位于所述第一子区域内的无机阻挡层的厚度大于位于所述第二子区域内的无机阻挡层的厚度;

在所述无机阻挡层上形成覆盖所述无机阻挡层和所述第一柔性衬底的第二柔性衬底。

10.根据权利要求9所述的制作方法,其特征在于,所述方法包括通过如下方式形成所述厚度不均一的无机阻挡层:

利用物理气相沉积或蒸镀的方式,在所述第一柔性衬底上逐层堆叠出厚度不均一的无机阻挡层。

11.根据权利要求10所述的制作方法,其特征在于,所述方法包括通过如下方式形成所述厚度不均一的无机阻挡层:

在所述第一柔性衬底上形成待刻蚀的无机膜层;

利用半色调掩膜版对所述无机膜层进行曝光;

对所述无机膜层进行刻蚀,形成厚度不均一的无机阻挡层。

12.根据权利要求11所述的制作方法,其特征在于,所述半色调掩膜版的透光率均匀渐变。

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