[发明专利]蒸镀坩埚及蒸镀装置

权利要求书

1.一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括坩埚本体及设于所述坩埚本体上的坩埚盖，所述坩埚盖具有喷嘴，所述喷嘴凸设于所述坩埚盖上，且设于背离所述坩埚本体的一侧，用于喷出所述坩埚本体中的有机材料，所述喷嘴具有顶壁和内壁，所述顶壁朝向于背离所述坩埚本体的一侧，所述内壁连接于所述顶壁与所述坩埚盖之间，以形成所述有机材料的输运通道，所述蒸镀坩埚还包括设于所述喷嘴外围的加热器，所述加热器用于产生热量，所述热量传导至所述内壁，所述内壁具有至少一个相对于所述喷嘴的轴向倾斜的第一表面，以增加所述内壁的热辐射量，以使所述内壁升温或保持温度，防止所述有机材料粘附于所述内壁。

2.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述坩埚盖具有底壁，所述底壁与所述顶壁相对设置，所述内壁连接于所述顶壁与所述底壁之间，所述内壁与所述顶壁的连接处形成第一端口，所述第一端口呈圆形，所述内壁与所述底壁的连接处形成第二端口，所述第一端口正对于所述第二端口，且所述第一端口的尺寸小于所述第二端口的尺寸。

3.如权利要求2所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第二端口的尺寸是所述第一端口的尺寸的1.1～5倍。

4.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第一表面与所述喷嘴的轴向形成第一夹角，所述第一夹角为5°～90°。

5.如权利要求4所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述内壁与所述顶壁的连接处形成第一端口，所述第一端口呈圆形，所述内壁具有凹槽，所述第一表面位于所述凹槽内。

6.如权利要求5所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述凹槽的延伸方向与所述喷嘴的轴向一致或与所述喷嘴的轴向形成0°～5°的夹角。

7.如权利要求5所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述内壁与所述顶壁的连接处形成第一端口，所述第一端口呈圆形，所述内壁还具有凸起，所述第一表面位于所述凸起上。

8.如权利要求7所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述凸起的延伸方向与所述喷嘴的轴向一致或与所述喷嘴的轴向形成0°～5°的夹角。

9.如权利要求4～8任一项所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述坩埚盖具有底壁，所述底壁与所述顶壁相对设置，所述内壁连接于所述顶壁与所述底壁之间，所述内壁与所述底壁的连接处形成第二端口，所述第二端口正对于所述第一端口，且所述第一端口的尺寸小于所述第二端口的尺寸。

10.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1～9任一项所述的蒸镀坩埚。