[发明专利]一种微波等离子体化学气相沉积装置及其生产方法

权利要求书

1.一种微波等离子体化学气相沉积装置，包括壳体，其特征在于：所述壳体的上表面设有微波输入口，所述微波输入口的下方设置有基板，所述基板的底面设置有环形天线，所述基板与壳体之间设置有由微波介质材料制成的管状微波窗，所述管状微波窗的内腔与所述微波输入口连通，管状微波窗的顶端与壳体连接，管状微波窗的底端设置于所述基板的顶面，所述壳体的底端设置有沉积台，所述沉积台位于环形天线的下方，并且沉积台能够在第一升降装置的驱动下上下移动，所述沉积台的外侧面设置有管状结构的等离子体稳定环，所述沉积台、等离子体稳定环、壳体、管状微波窗及基板包围形成封闭的谐振腔。

2.根据权利要求1所述的微波等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述沉积台内设有可循环的冷却介质。

3.根据权利要求1所述的微波等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述等离子体稳定环内设有可循环的冷却介质。

4.根据权利要求3所述的微波等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述等离子体稳定环能够在第二升降装置的驱动下沿沉积台的表面上下移动。

5.根据权利要求4所述的微波等离子体化学气相沉积装置，其特征在于：所述等离子体稳定环由铁制成。

6.一种如权利要求4所述金刚石合成的微波等离子体化学气相沉积装置的金刚石生产方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：对谐振腔进行抽真空；

S2：向谐振腔内充入氢气；

S3：利用微波发生装置向微波输入口发射微波；

S4：向谐振腔中通入甲烷气体进行金刚石生长；

S5：通过第一升降装置驱动沉积台下降，以匹配金刚石的生长速度。