[发明专利]一种VCM弹片的制作方法

权利要求书

1.一种VCM弹片的制作方法，其特征在于，包括：在基板上同时曝光并通过激光蚀刻机采用双面蚀刻工艺制作出预设形状得到所述VCM弹片，所述基板包括厚度为0.03mm-0.08mm的铜镍锡合金BF158；

其中，所述双面蚀刻工艺具体包括：

(1)在真空状态或惰性气氛的保护下，在所述基板的上表面和下表面进行曝光处理，具体的，在基板的上表面和下表面分别涂覆感光材料，在所述上表面和下表面的感光材料上贴附与预设形状完全对应相同的菲林，所述菲林上的图案为阵列分布的圆形，然后进行曝光处理，曝光后将菲林去掉，并清洗除去所述基板上表面和下表面的未固化感光材料；

(2)先将掩膜后的基板上表面或下表面置于蚀刻机进行喷淋蚀刻，然后将基板翻转，将基板的下表面或上表面置于蚀刻机进行喷淋蚀刻，完成对基板的双面蚀刻；所述双面蚀刻中的蚀刻液包含以下组分：HCL、CU₂⁺、乳化剂SG、余量为水；

(3)对双面蚀刻后的基板进行脱膜处理，除去掩膜层，并进行清洗、抗氧化处理、烘干。

2.根据权利要求1所述的VCM弹片的制作方法，其特征在于，所述激光蚀刻机包括平行曝光机。

3.根据权利要求2所述的VCM弹片的制作方法，其特征在于，所述平行曝光机的激光波长采用365nm，脉宽不大于15ps。

4.根据权利要求3所述的VCM弹片的制作方法，其特征在于，所述步骤（1）中菲林上的圆形图案直径比需在所述基板上加工出的圆孔直径小 0.1～0.12mm。

5.根据权利要求4所述的VCM弹片的制作方法，其特征在于，所述步骤（2）中，对所述基板的上表面和下表面进行蚀刻的蚀刻液喷淋压力分别为 0.3pai～1.4pai、0.9pai～1.1pai，蚀刻补偿压力0.1MPa-1.1MPa，蚀刻温度为44.5℃-45.5℃，蚀刻流量为140L/min-160L/min。