[发明专利]用于磁性介质图案化的抗蚀剂强化

权利要求书

1.一种具有磁化层的衬底，所述磁化层包含：

多个具有第一磁性值的第一畴；

多个具有第二磁性值的第二畴；以及

介于所述多个第一畴与所述多个第二畴之间的过渡区，所述过渡区的尺寸小于约2nm，其中所述多个第一畴和所述多个第二畴各自的尺寸小于约25nm。

2.如权利要求1的衬底，其中所述多个第一畴掺杂硼、氟、硅、碳、氮或氧。

3.如权利要求2的衬底，其中所述多个第二畴实质不含掺杂剂。

4.如权利要求1的衬底，其中所述多个第一畴掺杂硼。

5.如权利要求4的衬底，其中所述多个第一畴掺杂的浓度达10¹⁶至10²²个原子/立方厘米。

6.如权利要求1的衬底，其中所述多个第一畴掺杂硅。

7.如权利要求1的衬底，其中所述多个第一畴掺杂碳。

8.如权利要求1的衬底，进一步包含：

形成在所述磁化层上的接触防止层。

9.如权利要求8的衬底，进一步包含：

形成在所述接触防止层上的润滑层。

10.一种用于处理衬底的设备，所述设备包含：

衬底搬运部，所述衬底搬运部经由一或多个负载锁定腔室耦接至衬底处理部，所述衬底处理部包含等离子体增强原子层沉积(PEALD)腔室和一或多个等离子体浸没腔室，所述等离子体增强原子层沉积(PEALD)腔室和一或多个等离子体浸没腔室耦接至传送腔室，并且所述衬底搬运部包含装载部、传送部、翻转部和界面部。

11.如权利要求10的设备，其中所述衬底处理部还包含等离子体清洁腔室。