[发明专利]一种V法垂直造型工艺和铸造工艺

权利要求书

1.一种V法垂直造型工艺，包括以下步骤：

1)、分别在正压板和反压板带有模样的表面吸贴薄膜并喷涂涂料，得到覆膜后的正压板和反压板；

2)、使覆膜后的正压板、反压板和带有抽气室的砂箱形成封闭的造型室，

所述砂箱位于正压板和反压板之间并通过液压系统压紧，使造型室中形成垂直型腔，所述砂箱顶面板上开设有射砂口；

3)、通过射砂装置向造型室内垂直射入干砂后采用薄膜密封射砂口，然后对造型室进行抽真空处理，

所述射砂装置位于射砂口上方；

4)、待造型室内的干砂紧实后使正压板和反压板离开砂箱，得到两侧具有型腔的型块；

5)、将型块与上一个型块进行合箱，得到砂型，所述砂型垂直分型；

6)、重复步骤1)～5)的操作，得到由多个砂型形成的造型线；

所述砂箱的前侧板和/或后侧板上开设有真空通道。

2.根据权利要求1所述的造型工艺，其特征在于，所述步骤3)采用薄膜密封射砂口的方法为：

采用步骤1)中正压板或反压板模样表面的薄膜密封射砂口；或

根据射砂口的尺寸和形状重新剪裁薄膜密封射砂口。

3.根据权利要求1所述的造型工艺，其特征在于，所述薄膜选自聚乙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、乙烯-醋酸乙烯共聚物薄膜、聚丙烯薄膜和聚乙烯醇薄膜中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的造型工艺，其特征在于，所述射砂的压力为0.02～0.06MPa；

所述射砂的时间为0.1～0.4秒。

5.根据权利要求1所述的造型工艺，其特征在于，所述干砂的细度为70～120目。

6.根据权利要求1所述的造型工艺，其特征在于，所述抽真空处理的真空度为30～70KPa。

7.根据权利要求1所述的造型工艺，其特征在于，所述型块的表面强度为85～95g/mm²。

8.根据权利要求1所述的造型工艺，其特征在于，所述合箱的精度在0.1mm之内。

9.一种铸造工艺，包括：

向造型线的砂型中浇注金属液，得到铸件；

所述造型线为权利要求1所述的造型工艺制备得到的造型线。