[发明专利]一种用于激光显示的激光源

权利要求书

1.一种激光源，其特征在于，包括泵浦源、自倍频晶体和谐振腔镜；

所述泵浦源用于产生微秒脉冲泵浦光；

所述自倍频晶体按相位匹配角切割，用于吸收泵浦光，并产生倍频激光；所述自倍频晶体按照倍频相位匹配方向切割成柱状或板条状，所述的柱状或板条状的两端面为两个通光端面，所述两个通光端面为平面、球面或非球面，两个通光端面分别为泵浦光输入端面和激光输出端面，两个通光端面进行抛光处理；

所述谐振腔镜用于形成激光振荡的谐振腔，并选择性输出激光。

2.根据权利要求1所述的激光源，其特征在于，所述泵浦源包括脉冲激光二极管，所述脉冲激光二极管的重复频率大于50Hz，脉宽为100-600us。

3.根据权利要求1所述的激光源，其特征在于，所述谐振腔包括靠近泵浦源的全反腔镜和远离泵浦源的耦合输出腔镜；所述自倍频晶体设于所述全反腔镜和所述耦合输出腔镜间，所述全反腔镜对泵浦源发射的泵浦光高透，对基频激光和倍频激光高反，所述耦合输出腔镜对泵浦光高透，基频激光高反、对输出的倍频激光耦合输出。

4.根据权利要求3所述的激光源，其特征在于，所述全反腔镜镀有对泵浦光高透过率的介质膜，对基频、倍频激光高反射率的介质膜；所述输出耦合镜镀有对泵浦光高透过率、基频激光高反射率的介质膜，对输出的倍频激光耦合输出率的介质膜。

5.根据权利要求1所述的激光源，其特征在于，所述谐振腔包括镀在自倍频晶体靠近泵浦源一侧晶体端面的，对泵浦光高透过率的介质膜，对基频激光、倍频激光高反射率的介质膜；还包括镀在自倍频晶体远离泵浦源一侧晶体端面的，对泵浦光高透过率、基频激光高反射率的介质膜，对输出的倍频激光耦合输出率的介质膜。

6.根据权利要求1所述的激光源，其特征在于，所述自倍频晶体为红光自倍频晶体，所述红光自倍频晶体为NYAB或Nd:GdCOB、Nd:YCOB、Nd:LCB。

7.根据权利要求1所述的激光源，其特征在于，所述自倍频晶体为绿光自倍频晶体，所述绿光自倍频晶体为NYAB、Nd:GdCOB、Nd:LCB、Cr:Nd:GdCOB、Yb:GdYAB、Yb:YAB或Yb:YCOB。

8.根据权利要求1所述的激光源，其特征在于，所述自倍频晶体为蓝光自倍频晶体，所述蓝光自倍频晶体为Nd:YCOB,Nd:LCB、Nd:GdCOB。