[发明专利]一种含生长因子的防晒BB霜及其制备方法在审
申请号: | 201710621788.1 | 申请日: | 2017-07-27 |
公开(公告)号: | CN107349130A | 公开(公告)日: | 2017-11-17 |
发明(设计)人: | 陈松彬;倪彦艳;刘杰森;陈健欢 | 申请(专利权)人: | 广东科玮生物技术股份有限公司 |
主分类号: | A61K8/64 | 分类号: | A61K8/64;A61K8/891;A61K8/58;A61K8/37;A61K8/34;A61K8/20;A61Q17/04;A61Q19/02 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 生长因子 防晒 bb 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于护肤品技术领域,尤其涉及一种含生长因子的防晒BB霜及其制备方法。
背景技术
BB霜,是Blemish Balm的简称。BB霜的种类繁多,其功效涉及遮瑕、防晒、调整肤色、细致毛孔等多个方面,基本集合了粉底、隔离、遮瑕和护肤的功效,但功效往往不够显著。BB霜的优势在于多功能,但防晒效果不如防晒霜,防晒值通常不够高,阻断紫外线时间也较短,防晒效果不够显著。
紫外线具有三种不同的波段,分别是短波紫外线UVC 200~290nm、中波紫外线UVB 290~320nm、长波紫外线UVA 320~340nm。对UVB的防御功能用防晒指数(SPF)表示,对UVA的防御功能用UVA防护指数(PFA)表示。按作用机理分,防晒剂可分为化学性紫外线吸收剂、物理性紫外线屏蔽剂和生物性防晒剂。防晒产品的主要功效体现在对UBV和UVA的防护效果。二氧化钛等钛类防晒剂的防晒波段大约在290-400nm之间,属于全波段防晒剂,因此常常作为BB霜的物理防晒剂。为了获得较高的SPF值,往往需要添加5%以上的二氧化钛,二氧化钛属于限用防晒剂。抹到脸上既有直接增白的效果,又能防晒,许多隔离霜、祛斑霜、美白霜等产品也会使用二氧化钛当做基础原料。
中国专利申请CN 103735461公开了一种7小时不脱妆BB霜,该BB霜采用物理防晒,包括环五聚二甲基硅氧烷、异壬酸异壬酯、PEG-10聚二甲基硅氧烷和硅处理钛白粉等,通过添加有分散粉体功能的有机硅成膜剂,能够有效保持妆容7小时不掉,具有良好的隔离、保湿护肤功能,但防晒和遮瑕效果较差。
表皮生长因子(EGF),是由53个氨基酸组成的多肽,相对分子量约为6045。表皮生长因子具有多种生物活性,能促进DNA、蛋白质等的生物合成。表皮生长因子在化妆品中的作用包括:①、促进细胞再生和组织修复,有促进皮肤和黏膜创伤面的愈合作用,并减少疤痕挛缩和皮肤畸形增生。②、防晒作用,能促进新生细胞的生长,替代受紫外线照伤的细胞,以降低皮肤中黑色素细胞的数量。③、嫩肤护肤作用,能促进皮肤细胞对营养物质的吸收,加速细胞的新陈代谢,促进皮肤细胞的分裂和增长,促进透明质酸和糖蛋白的合成。
表皮生长因子的分子量较大,不易穿过皮肤表皮到达真皮部位,且稳定性较差。中国专利申请CN 102988257、CN 102247300等报道了将表皮生长因子制成脂质体的方法,增强靶向性,促进渗透,增强生物利用度,但脂质体的制备方法较复杂,且功效发挥不够稳定。
虽然已有文献报道将表皮生长因子用于护肤品中,但往往需要制备成脂质体,且未检索到将表皮生长因子应用于BB霜中以增强防晒效果的报道。因此,提供一种能够实现良好的防晒效果且制备简单的含有表皮生长因子的BB霜,具有重要意义。
发明内容
为解决现有技术中存在的问题,发明人尝试着将生长因子加入到BB霜中,结果发现在含有环五聚二甲基硅氧烷和异壬酸异壬酯等的BB霜体系中难以发挥稳定的作用,稳定性差。在上述发现的基础上,发明人通过大量试验对生长因子在BB霜中的稳定性进行考察,预料不到地发现,通过将表皮生长因子和白细胞介素-12组成的生长因子与短肽His-Ser-Arg-Trp混匀后加入BB霜体系,促进渗透吸收,不仅可以实现良好的防晒效果,防晒区间大,稳定性好,而且制备简单,无需制备成脂质体,实现了表皮生长因子在BB霜中的应用,并解决了表皮生长因子在BB霜体系中不稳定的问题。
本发明的目的将通过下面的详细描述来进一步体现和说明。
本发明提供一种含生长因子的防晒BB霜,包括如下组分及其质量份数:环五聚二甲基硅氧烷5-12份、异壬酸异壬酯3-6份、生长因子0.00001-0.0005份、短肽0.5-5份、PEG-9聚二甲基硅氧乙基聚二甲基硅氧烷3-6份、鲸蜡基PEG/PPG-10/1聚二甲基硅氧烷1-4份、辛酸/癸酸甘油三酯4-8份、二甲基硅氧烷0.5-3份、甘油4-8份、丙二醇2-5份、氯化钠0.5-1份、防腐剂0.1-0.5份、色粉0.2-1份、香精0-0.3份、水55-72份;所述生长因子由表皮生长因子和白细胞介素-12组成,所述短肽为His-Ser-Arg-Trp。
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