[发明专利]一种利用激光校正光学系统波前分布的方法在审
| 申请号： | 201710623727.9 | 申请日： | 2017-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN107272195A | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 赵晓杰;陶沙 | 申请（专利权）人： | 英诺激光科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所44242 | 代理人： | 冯筠 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区科技*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 利用 激光 校正 光学系统 分布 方法 | ||
1.一种利用激光校正光学系统波前分布的方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、获取待校正光学系统未校正前实际的波前分布；
S2、根据S1获取的波前分布，计算用于波前校正的光学器件所需达到的折射率空间分布；
S3、利用激光作用于S2所述的光学器件，在其内产生所需的折射率空间分布；
S4、将S3所述的光学器件置于光学系统中，以校正原光学系统中存在的波前畸变，或得到具有所需的任意波前分布的特殊光学系统。
2.如权利要求1所述的一种利用激光校正光学系统波前分布的方法，其特征在于：所述S1步骤中，待校正光学系统未校正前实际的波前分布可通过仪器测量或计算得到。
3.如权利要求1所述的一种利用激光校正光学系统波前分布的方法，其特征在于：所述S2步骤中，先获取光学系统存在的波前畸变，根据该波前畸变计算用于校正的光学器件所需的折射率空间分布。
4.如权利要求1所述的一种利用激光校正光学系统波前分布的方法，其特征在于：所述S2步骤中，所需的折射率空间分布可根据S1步骤中获得的波前分布进行计算、模拟而确定。
5.如权利要求1所述的一种利用激光校正光学系统波前分布的方法，其特征在于：所述S3步骤中，利用激光作用于所述光学器件后，对光学器件进行折射率空间分布的测量，若达到所需的折射率空间分布，则完成该光学器件的加工；若未达到所需的折射率空间分布，则又重复从S2步骤开始，直至该光学器件达到所需的折射率空间分布。
6.如权利要求1-5任一项所述的一种利用激光校正光学系统波前分布的方法，其特征在于：所述用于校正的光学器件可以是光学系统中从光路起始点到光路终点间任意至少一个光学器件。
7.如权利要求6所述的一种利用激光校正光学系统波前分布的方法，其特征在于：所述的光学器件可以为添加至所述光学系统中的光学补偿器件。
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