[发明专利]一种超分子插层结构光稳定剂及其制备方法有效
申请号: | 201710628677.3 | 申请日: | 2017-07-28 |
公开(公告)号: | CN107629310B | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | 唐平贵;李殿卿;冯拥军;陈廷伟;赵梦垚;马若愚 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学 |
主分类号: | C08L23/12 | 分类号: | C08L23/12;C08K5/42;C08K5/3435 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 张慧 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 分子 结构 稳定剂 及其 制备 方法 | ||
1.一种超分子插层结构光稳定剂的制备方法,具体步骤如下:
A.称取M2+、M3+的硝酸盐或氯化盐溶于除二氧化碳的去离子水中配制成混合盐溶液A,其中M2+与M3+的摩尔比为2-4,M3+的摩尔浓度为0.05-0.8mol/L;
其中M2+为Mg2+、Zn2+、Ni2+、Ca2+、Fe2+、Cu2+中的任意一种或两种;M3+为Al3+、Co3+、Ti3+、Fe3+、Cr3+三价金属阳离子中的一种或两种;
B.配制摩尔浓度为0.05-1mol/L的碱溶液,所述的碱为NaOH、KOH或氨水;其中碱的摩尔量为步骤A溶液中M2+与M3+摩尔量之和的1.8-2.5倍;
按照紫外吸收剂与自由基捕获剂的摩尔比值为0.025-39的比例,将这两种原料溶于溶剂中配成总摩尔浓度为0.05-0.5mol/L的溶液,加入到上述碱溶液中形成混合溶液B;其中紫外吸收剂与自由基捕获剂的摩尔量之和与溶液A中M3+摩尔量之和的比值为1-3;所述的溶剂是除二氧化碳的去离子水或是其与极性溶剂的混合溶剂,所述的极性溶剂是乙醇、乙二醇或丙三醇,根据能溶解所用的紫外吸收剂和自由基捕获剂而选用相应的溶剂;
所述的自由基捕获剂为四甲基哌啶类化合物,其化学式如下式所示:
式中R1为H或CH3;R2为O-R3-COONa、NH-R3-COONa、O-R3-SO3Na或NH-R3-SO3Na,其中R3为[CH2]m[C6H4]n,m为1-8之间的整数,n=0或1;
所述的紫外吸收剂为对氨基苯甲酸钠、对-甲氧基肉桂酸钠、水杨酸钠、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸钠、香豆素-3-羧酸钠、肉桂酸钠、苯并三唑-4-羟基-苯磺酸钠、2-苯基苯并咪唑-5-磺酸钠中的一种或几种;
C.在氮气保护和搅拌下,将混合盐溶液A和混合溶液B混合反应生成沉淀,将生成的沉淀离心洗涤3遍,然后用水配制成固含量为1-100g/L的浆液;再加入紫外吸收剂与自由基捕获剂,其中紫外吸收剂、自由基捕获剂加入量均为浆液中M3+摩尔量的0.1-0.3倍,然后在50-150℃下搅拌反应4-24小时,冷却、过滤产物并洗涤4-9遍,滤饼在60-100℃干燥12-24小时即得到超分子插层结构光稳定剂,其化学通式为:
[M2+1-xM3+x(OH)2](A-)y(B-)z·cH2O
其中x=y+z,0.2≤x≤0.4,0.01y0.39,0.01z0.39,c为层间水分子数,0.4c1;
M2+为Mg2+、Zn2+、Ni2+、Ca2+、Fe2+、Cu2+中的任意一种或两种;M3+为Al3+、Co3+、Ti3+、Fe3+、Cr3+中的一种或两种;A-为自由基捕获剂的阴离子,B-为紫外吸收剂阴离子。
2.根据权利要求1所述的超分子插层结构光稳定剂的制备方法,其特征是所述的M2+是Mg2+、Zn2+中的一种,M3+是Al3+。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京化工大学,未经北京化工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710628677.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。