[发明专利]用于干蚀刻机台的下电极结构及干蚀刻机台在审
| 申请号： | 201710628785.0 | 申请日： | 2017-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN107393803A | 公开（公告）日： | 2017-11-24 |
| 发明（设计）人： | 张佳;张占东 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人： | 孙伟峰,武岑飞 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 机台 电极 结构 | ||
1.一种用于干蚀刻机台的下电极结构，其特征在于，包括：
绝缘部，包括相对的第一表面和第二表面；
电极部，设置于所述第二表面上；
顶针孔，贯穿所述绝缘部和所述电极部，所述第一表面与所述顶针孔的内表面的连接处形成台阶；
顶针，包括针杆以及连接于所述针杆一端的托盘；
其中，当所述顶针承载所述被处理的基板至所述第一表面上时，所述托盘的端部位于所述台阶上，以将所述顶针孔的在所述第一表面上的开口封闭，所述针杆位于所述顶针孔中。
2.根据权利要求1所述的下电极结构，其特征在于，所述针杆和所述托盘均呈圆柱体状，所述托盘的底面直径大于所述针杆的底面直径。
3.根据权利要求1所述的下电极结构，其特征在于，所述托盘呈圆柱体状，所述针杆呈长方体状，所述针杆在所述托盘上的投影完全位于所述托盘内。
4.根据权利要求1所述的下电极结构，其特征在于，所述针杆和所述托盘均呈长方体状，所述针杆在所述托盘上的投影完全位于所述托盘内。
5.根据权利要求1所述的下电极结构，其特征在于，所述托盘呈长方体状，所述针杆呈圆柱体状，所述针杆在所述托盘上的投影完全位于所述托盘内。
6.根据权利要求1所述的下电极结构，其特征在于，所述绝缘部由陶瓷材料制成。
7.根据权利要求1至5任一项所述的下电极结构，其特征在于，所述顶针由绝缘材料制成。
8.一种干蚀刻机台，其特征在于，包括权利要求1至7任一项所述的下电极结构。
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