[发明专利]一种盖板及电子设备在审
| 申请号： | 201710630812.8 | 申请日： | 2017-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN107247299A | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 张保保;周伟杰 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;H05K5/03 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 罗满 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 盖板 电子设备 | ||
1.一种盖板，其特征在于，包括基板和镀膜层；
所述镀膜层覆盖在所述基板一侧表面，所述镀膜层由至少两种氧化物材料膜层叠加形成，所述至少两种氧化物材料膜层具有不同的折射率；
所述镀膜层使入射光入射到所述盖板，经过各膜层折射后形成的反射光呈现的色度区域在CIE LAB表色系统中满足：40≤L坐标值≤50，-2≤a坐标值≤2，-2≤b坐标值≤2。
2.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述镀膜层覆盖在所述基板背向观察一侧的表面上。
3.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述镀膜层覆盖在所述基板朝向观察一侧的表面上。
4.根据权利要求1-3任一项所述的盖板，其特征在于，所述氧化物材料包括氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铌或者氧化钽。
5.根据权利要求2所述的盖板，其特征在于，所述镀膜层包括按层依次覆盖在所述基板表面上的氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层、氧化硅膜层、氧化钛膜层和氧化硅膜层。
6.根据权利要求5所述的盖板，其特征在于，各膜层的厚度依次为3nm-16nm、64nm-86nm、28nm-48nm、5nm-17nm、18nm-37nm和120nm-140nm。
7.根据权利要求3所述的盖板，其特征在于，所述镀膜层包括按层依次覆盖在所述基板表面上的氧化钛膜层、氧化硅膜层和氧化钛膜层。
8.根据权利要求7所述的盖板，其特征在于，各膜层的厚度依次为3nm-16nm、32nm-51nm和16nm-34nm。
9.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，还包括覆盖在所述盖板朝向观察一侧表面上的防指纹膜。
10.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的盖板。
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