[发明专利]掩模版框架、蒸镀装置及掩模版框架定位方法

说明书

本发明的目的在于提供一种掩模版框架、蒸镀装置及掩模版框架定位方法，该掩模版框架包括：框架主体，所述框架主体包括第一表面；设置在所述框架主体的第一表面上的沟槽，所述沟槽包括与所述第一表面平行的槽底面及相对的两侧壁；在所述第一表面和所述槽底面中的至少一个面的边界对应位置处还设置有辅助面，所述辅助面与所述槽底面不平行，且所述辅助面与所述槽底面不垂直，使所述辅助面经图像采集器采集的图案区别于所述槽底面和所述第一表面经图像采集器采集的图案，以识别所述沟槽的边界。本发明能够提高沟槽的识别准确性。

技术领域

本发明涉及显示器制造技术领域，尤其涉及一种掩模版框架、蒸镀装置及掩模版框架定位方法。

背景技术

精细金属掩膜(FMM Mask)模式，是通过蒸镀方式将OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)材料按照预定程序蒸镀到LTPS(低温多晶硅)背板上，利用FMM上的图形，蒸镀红、绿、蓝有机物到规定位置上。

目前蒸镀装置对蒸镀掩模版的框架(Frame)上的沟槽(Groove)进行定位时所采用的方法是，通过CCD(图像采集器)识别沟槽的两个相对侧壁的边界。但是在目前的框架沟槽设计中，如图1所示，框架的表面1到沟槽的侧壁2到沟槽的槽底面3是直角的过渡形态，CCD发出光照射沟槽所在区域，光在框架的表面和沟槽的底面都是竖直反射的，CCD感应的结果是两个平面是亮面，同时由于框架的表面到沟槽的侧壁到沟槽的底面都是直角的过渡形态，所以CCD最终反应的画面是，整体都是亮面，没有明确的过渡线，从而使CCD很难分辨沟槽的两边边界(也就是，框架的表面和沟槽的底面之间的边界)，影响设备对框架上沟槽的定位，影响设备的自动化运行状态，有时候识别较差的时候，设备调整过大，沟槽会超出CCD视野，严重的时候出现设备部件之间的冲突，影响设备的运行。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩模版框架、蒸镀装置及掩模版框架定位方法，能够提高沟槽的识别准确性。

本发明所提供的技术方案如下：

一种掩模版框架，包括：

框架主体，所述框架主体包括第一表面；

设置在所述框架主体的第一表面上的沟槽，所述沟槽包括与所述第一表面平行的槽底面及相对的两侧壁；

在所述第一表面和所述槽底面中的至少一个面的边界对应位置处还设置有辅助面，所述辅助面与所述槽底面不平行，且所述辅助面与所述槽底面不垂直，使所述辅助面经图像采集器采集的图案区别于所述槽底面和所述第一表面经图像采集器采集的图案，以识别所述沟槽的边界。

进一步的，每一侧壁具有与所述第一表面连接过渡的上过渡边沿和与所述槽底面连接过渡的下过渡边沿，其中沿每一侧壁的上过渡边沿设置有第一倒角面结构，所述第一倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

进一步的，每一侧壁具有与所述第一表面连接过渡的上过渡边沿和与所述槽底面连接过渡的下过渡边沿，其中沿每一侧壁的下过渡边沿设置有第二倒角面结构，所述第二倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

进一步的，所述沟槽的两个侧壁中至少一部分与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

进一步的，所述沟槽的两个侧壁中至少一部分为与所述槽底面之间呈预设斜夹角的斜面结构。

进一步的，所述槽底面的四周边界包括：

与所述两侧壁过渡连接的、相对设置的两个下过渡边沿；

及，连接在两个下过渡边沿之间的槽底边沿；

其中，沿所述槽底边沿设置有一第三倒角面结构，所述第三倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

进一步的，所述槽底面的四周边界包括：