[发明专利]线圈盘及其制造方法、具有该线圈盘的电磁烹饪器具

权利要求书

1.一种线圈盘，其特征在于，包括：

线圈盘支架，所述线圈盘支架的外表面的至少一部分为粗糙表面，所述粗糙表面上形成有活化层，其中，所述线圈盘支架的外表面的所述至少一部分上设有多个凹坑以形成所述粗糙表面；

至少一圈线圈，所述线圈在厚度方向上包括化镀层和电镀层，所述化镀层设在所述活化层上，所述电镀层设在所述化镀层上；其中

所述化镀层的厚度为D1，且D1满足：1μm≤D1≤2μm，且所述线圈的厚度为D2，且D2满足：200μm≤D2≤500μm。

2.根据权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，至少一部分所述凹坑构造为缩口状凹坑。

3.根据权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述线圈盘支架整体为非金属支架。

4.根据权利要求3所述的线圈盘，其特征在于，所述线圈盘支架整体为PBT材料或PPS材料制成的支架。

5.根据权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述线圈盘支架注塑成型。

6.一种电磁烹饪器具，其特征在于，包括根据权利要求1-5中任一项所述的线圈盘。

7.一种制造根据权利要求1-6中任一项所述的线圈盘的线圈盘制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

在线圈盘支架的外表面的至少一部分形成粗糙表面，其中在所述线圈盘支架的外表面的至少一部分上设置多个凹坑以形成所述粗糙表面；

对粗糙表面进行敏化处理形成活化层；

对活化层进行化学镀形成线圈的化镀层；

对化镀层进行电镀处理以在化镀层上形成线圈的电镀层。

8.根据权利要求7所述的线圈盘制造方法，其特征在于，所述凹坑通过对所述线圈盘支架的外表面的所述至少一部分粗化处理形成。

9.根据权利要求8所述的线圈盘制造方法，其特征在于，所述粗化处理为喷砂粗化。

10.根据权利要求7所述的线圈盘制造方法，其特征在于，化镀层为多圈，对化镀层进行电镀处理时，每隔2-5圈设置一个导电电极。

11.根据权利要求10所述的线圈盘制造方法，其特征在于，对化镀层进行电镀处理时，将带有导电电极的线圈盘浸入电镀液中，并对导电电极通电，进行电镀处理。

12.根据权利要求7所述的线圈盘制造方法，其特征在于，对活化层进行化学镀形成金属层，去除金属层的一部分形成线圈的化镀层。

13.根据权利要求12所述的线圈盘制造方法，其特征在于，所述金属层通过激光扫描切割去掉所述金属层的一部分形成所述化镀层。