[发明专利]目标处理单元

权利要求书

1.一种目标处理单元(10)，包括：

-用于容纳待处理目标的真空腔室(30)，所述真空腔室包括被布置成用于在所述真空腔室内提供真空环境的真空壳体(39)；

-用于容纳电子装备(22)的机柜(12)；

-在所述真空腔室(30)内的投影列(46)，用于生成、成型射束和使射束指向目标(31)；

-在所述真空腔室(30)内的另外的设备；

-管线(26、37、60)，用于将投影列连接至所述电子装备(22)；

-与所述管线(26、37、60)不同的另外的管线(110)，用于将所述另外的设备连接至所述电子装备(22)；

-沿着所述机柜的外侧面的第一电缆导向壳体(120)和沿着所述真空腔室的外侧面的第二电缆导向壳体(140)，用于将所述另外的管线从所述电子装备引导到所述另外的设备；

接入端口(36)，被布置成位于所述真空壳体的外部；以及

连接器板(48)，被布置成位于所述真空壳体的内部，

其中所述管线(26、37、60)包括延伸穿过所述真空腔室的上侧的一个或多个中间管线(37)，所述管线被引导到所述接入端口(36)并且被引导到所述连接器板(48)，并且所述接入端口(36)和所述连接器板(48)被布置成经由所述一个或多个中间管线(37)振动/运动解耦合连接，并且

其中所述另外的管线(110)被引导到所述真空腔室的下侧并且延伸穿过所述真空腔室的下侧到所述真空腔室中。

2.如权利要求1所述的目标处理单元，其中所述真空腔室内的所述另外的设备包括用于支撑所述目标的定位系统(114)，其中所述定位系统相对于所述投影列可移动地布置，并且其中所述定位系统和所述投影列在空间上占据所述真空腔室的不同部分。

3.如权利要求1所述的目标处理单元，其中所述真空壳体(39)限定第一壁、和与所述第一壁相对的第二壁，其中所述第一壁和第二壁共同界定前腔室侧，所述前腔室侧带有用于将所述投影列(46)插入到所述真空腔室中和从其中移除的开口，其中所述第一壁形成所述真空腔室的所述上侧，且其中所述第二壁形成所述真空腔室的所述下侧。

4.如权利要求1所述的目标处理单元，其中所述第二电缆导向壳体(140)沿着所述真空腔室的侧壁(144)设置，从所述真空腔室的上侧延伸到下侧，用于引导所述另外的管线(110)。

5.如权利要求1所述的目标处理单元，其中所述接入端口(36)被配置用于可拆卸地连接所述电子装备(22)。

6.如权利要求5所述的目标处理单元，其中所述连接器板(48)被配置用于可拆卸地连接所述投影列(46)的一个或多个部分(50、90、96、100)。

7.如权利要求1所述的目标处理单元，其中所述一个或多个中间管线(37)被配置成在操作过程中提供在所述接入端口(36)与所述连接器板(48)之间的电和/或光信号连接，并且其中所述中间管线设置有弯曲的有弹性的中间管线部分(37a,37b)，该中间管线部分配置成提供在所述接入端口(36)与所述连接器板(48)之间的振动/运动解耦合。