[发明专利]一种扩散膜遮瑕性的测试方法在审

专利信息
申请号: 201710642755.5 申请日: 2017-07-31
公开(公告)号: CN107271153A 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 赖春桃;周福新;林文峰 申请(专利权)人: 信利半导体有限公司
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 邓义华,廖苑滨
地址: 516600 *** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 扩散 膜遮瑕性 测试 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及背光检测技术领域,特别是涉及了一种扩散膜遮瑕性的测试方法。

背景技术

背光的薄型化及高亮要求,及无边框背光的出现会导致背光异物较普通背光增多,另外如果搭配复合膜其雾度胶普通增加低,因此需搭配高雾度的扩散膜。因此各家扩散制造上纷纷推出高遮瑕性的扩散膜,但目前对于扩散膜遮瑕性没有很好的测试方法,而若扩散膜遮瑕性不足,则会导致如下问题:(1)导光板网点的规律排布,经点亮后因遮瑕性不足导致背光及模组可见规律纹路;(2)背光异物,因遮瑕性不足导致透点,亮点。

因此,需要提供一种测试方法可为扩散膜的开发导入提供标准。

发明内容

为了弥补已有技术的缺陷,本发明提供一种扩散膜遮瑕性的测试方法。

本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:

一种扩散膜遮瑕性的测试方法,包括以下步骤:

S1.制作雾度卡:在透明基材上丝印若干个矩阵排列的图案,所述图案包括若干横排及若干竖排,各横排之间的图案大小不同,各横排还设有表示该图案等级的标记;

S2.将上述雾度卡置于平面光源上,所述平面光源在雾度卡的下方照射雾度卡;

S3.将所需测试的扩散膜置于雾度卡上;

S4:观察扩散膜上所能看到的图案,根据所能观察到的最小的图案对应的标记即为该扩散膜的遮瑕水平。

进一步地,所述透明基材为菲林片。

进一步地,所述图案为圆点或字符。

进一步地,所述图案为白色或黑色。

进一步地,所述平面光源是背光源或灯箱。

进一步地,所述步骤S3为:在所需测试的扩散膜上贴附设置增光膜获得复合膜,将复合膜置于雾度卡上。

本发明具有如下有益效果:

本发明通过观察扩散膜上所能看到的图案,根据所能观察到的最小的图案对应的标记即可测试扩散膜的遮瑕性,测试方便快速,成本低。

附图说明

图1为本发明雾度卡的结构示意图。

图中:1、透明基材,2、图案,3、标记。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进行详细的说明,实施例仅是本发明的优选实施方式,不是对本发明的限定。

一种扩散膜遮瑕性的测试方法,包括以下步骤:

S1.制作雾度卡:在透明基材上丝印若干个矩阵排列的图案,所述图案包括若干横排及若干竖排,各横排之间的图案大小不同,各横排还设有表示该图案等级的标记;优选地,在所述透明基材上从上至下各横排之间的图案依次减小,而每横排上的图案大小相同;优选地,所述图案为圆点或字符,但不局限于此;所述图案为白色或黑色,更优选为黑色。更优选地,所述图案为圆点,矩阵排列的圆点包括11个横排和11个竖排,在所述透明基材上从上至下各横排的圆点的半径分别为:0.30mm、0.20mm、0.10mm、0.08mm、0.07mm、0.06mm、0.05mm、0.04mm、0.03mm、0.02mm、0.01mm,各横排还设有表示该图案等级的数字标记,所述透明基材优选为菲林片,其图案的精准度更好,使用寿命更长。

S2.将上述雾度卡置于平面光源上,所述平面光源在雾度卡的下方照射雾度卡。所述平面光源优选为背光源或灯箱,但不局限于此。

S3.将所需测试的扩散膜置于雾度卡上;或者在所需测试的扩散膜上贴附设置增光膜获得复合膜,将复合膜置于雾度卡上。

S4:观察扩散膜上所能看到的图案,根据所能观察到的最小的图案对应的标记即为该扩散膜的遮瑕水平。

需要说明的是,该测试方法同样适用于具有遮瑕功能的增光膜和偏光片。

以上所述实施例仅表达了本发明的实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制,但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案,均应落在本发明的保护范围之内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利半导体有限公司,未经信利半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710642755.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top