[发明专利]一种可用于无墨和可擦除打印的二重穿插Zn(II)配合物及其制备方法有效
申请号: | 201710650790.1 | 申请日: | 2017-08-02 |
公开(公告)号: | CN107522722B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 温世正;阚卫秋;阚玉和 | 申请(专利权)人: | 淮阴师范学院 |
主分类号: | C07F3/06 | 分类号: | C07F3/06;C08G83/00;C09D11/50;C09D11/03;C09D11/037;C09D11/102 |
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地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 擦除 打印 二重 穿插 zn ii 配合 及其 制备 方法 | ||
1.一种可用于无墨和可擦除打印的二重穿插Zn(II)配合物,其特征在于:化学式为[Zn(HL1)(L2)0.5]·H2O,其中HL1为部分去质子化的(3,5-二羧基-苯基)-(4-(2'-羧基-苯基)-苄基)醚,L2为去质子化的1,1'-双(4-羧基苄基)-4,4'-联吡啶;它的晶体属于单斜晶系,空间群为P21/c,晶胞参数为a=11.4691(18),b=16.699(3),β=110.14°,基本结构为三维网络,两个相同的网络又相互穿插成一个二重穿插结构。
2.根据权利要求1所述的一种可用于无墨和可擦除打印的二重穿插Zn(II)配合物的制备方法,其特征在于包括如下步骤:将H3L1:39.2mg,0.1mmol,Zn(OAc)2·2H2O:43.9mg,0.2mmol,H2L2·Cl2:49.7mg,0.10mmol和15mLH2O密封在一个20mL的带聚四氟乙烯内衬的反应釜中,在130℃下晶化3天;当混合物以10℃/h的降温速率冷却至室温以后,经过滤、洗涤和干燥即可得到所述配合物的淡黄色晶体。
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