[发明专利]气相质谱仪在审
| 申请号： | 201710652871.5 | 申请日： | 2017-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN109390205A | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 孙延锋;姜杰;顾大伟 | 申请（专利权）人： | 天源华威集团有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/04 | 分类号： | H01J49/04 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 谈杰 |
| 地址： | 212000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 底盘 管体 旋转托盘 检测器 质谱仪 表面粗糙度 铝合金材料 质量分析器 冲压成型 独立整体 检测物质 使用寿命 顺次连接 真空系统 阻力系数 离子源 平面度 平行度 磨擦 组装 检测 | ||
【权利要求书】：
1.一种气相质谱仪，其包括顺次连接的离子源、质量分析器、检测器和真空系统，其特征在于：所述检测器具有旋转托盘，所述旋转托盘包括底盘与管体，底盘与管体独立整体冲压成型后组装在一起。
2.根据权利要求1所述的气相质谱仪，其特征在于：所述底盘与管体采用中性铝合金材料。
3.根据权利要求1所述的气相质谱仪，其特征在于：所述底盘与管体的平面度为0.05mm。
4.根据权利要求3所述的气相质谱仪，其特征在于：所述底盘与管体的平行度为0.07mm。
5.根据权利要求4所述的气相质谱仪，其特征在于：所述底盘与管体的表面粗糙度为Ra1.0-Ra1.7。
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