[发明专利]一种产生负氧离子的纳米组合液、陶瓷及其制备方法在审
申请号: | 201710658079.0 | 申请日: | 2017-08-04 |
公开(公告)号: | CN108249959A | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 王贵锋;周国庆 | 申请(专利权)人: | 王贵锋;周国庆 |
主分类号: | C04B41/89 | 分类号: | C04B41/89 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 湖北省宜昌市五峰土*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 负离子 渗透液 质量百分比 负氧离子 组合液 密封液 组份 配制 纳米级二氧化硅 电气石表面 空气接触面 陶瓷表面 有机硅油 传统的 大颗粒 电气石 激活剂 毛细孔 悬浮剂 有效地 羧甲基 附体 素钠 制备 渗入 陶瓷 | ||
1.一种产生负氧离子的纳米组合液,其特征在于,包括独立配制而成的渗透液、负离子液及密封液;其中,
所述渗透液由如下组分按质量百分比制成:
纳米二氧化硅 10~50%
悬浮剂 2~10%
水 余量
所述负离子液由如下按质量百分比组份制成:
电气石 5~50%
羧甲基维维素钠 0.1~1%
激活剂 0.1~3%
水 余量
所述密封液由如下组份按质量百分比配制而成:
有机硅油 1~30%
水 余量
使用时,将所述渗透液、负离子液和密封液分别按前述顺序分散在陶瓷表面或者按照渗透液、密封液、负离子液的顺序分散在陶瓷表面,所述渗透液、负离子液及密封液用量之比为:1~25:1:0.5~3。
2.如权利要求1所述的一种产生负氧离子的纳米组合液,其特征在于,所述纳米级二氧化硅的粒径为1~55μm。
3.如权利要求1所述的一种产生负氧离子的纳米组合液,其特征在于,所述电气石粒径为1000~10000目。
4.如权利要求1所述的一种能够产生负离子的纳米组合液,其特征在于,所述有机硅油为高氢硅油。
5.如权利要求1所述的一种产生负氧离子的纳米组合液,其特征在于,所述激活剂为稀土族激活剂。
6.如权利要求1所述的种产生负氧离子的纳米组合液 ,其特征在于,所述渗透液的PH值为7~10,所述渗透液的使用温度范围为0~40℃。
7.如权利要求1~6任一项所述的一种产生负氧离子的纳米组合液的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
a,将硅粉研磨成粉末状,粒径在1~55μm的微粉,然后加入足量的水中,配制成含量为10~50%水溶液,加入悬浮剂2~10%,高速搅拌,使硅粉均匀的悬浮在水中,形成乳白色半透明胶液,即形成渗透液,常温下,贮存备用;b、将电气石研磨成1000~10000目的微粉,常温下,加入到水中,分散质量比为5~50%,加入0.1~1%的羧甲基纤维素钠,激活剂0.1~1%在高速搅拌机下搅拌,直到形成悬浮液,然后在常温下贮存备用;
c、取有机硅油置入水中,常温下,高速搅拌,配制成1~5%的乳化液,即形成密封液,贮存备用。
8.一种表面能够产生负氧离子的陶瓷,其特征在于,用上述权利要求1~6中任一项所述的纳米组合液制备而成。
9.如权利要求7所述的一种表面能够产生负氧离子的陶瓷的工艺方法,其特征在于包括以下步骤,
a、制备纳米组合液
按照上述权利要求6的工艺方法制备上述权利要求1~5任一项所述的纳米组合液;
b、将陶瓷表面清洁
将陶瓷表面清理,使表面平整、清洁;
c、分散纳米组合液
将步骤a中的制备的渗透液分散到陶瓷表面,然后利用磨块对陶瓷表面进行融合打磨,直至渗透液融入陶瓷表面的毛细孔内;然后再将步骤a中制备的负离子液或者密封液分散至所述陶瓷的表面,通过磨机在该表面进行打磨直到融合至陶瓷表面的毛细孔内,最后将步骤a中制备的密封液或负离子液分散到所述陶瓷的表面,通过磨机在该表面进行打磨直到融合至陶瓷表面的毛细孔内;
d、检测,入库
将步骤c中表面处理后的陶瓷进行一步精抛后,检测,合格入库。
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