[发明专利]一种用于大平板表面抛光的双级串联式磁控平面抛光装置

权利要求书

1.一种用于大平板表面抛光的双级串联式磁控平面抛光装置，其特征在于：包括紧固弹簧（1）、紧固滑块（2）、刮块（7）、抛光带（8）、溶液箱（9）、抛光液（10）、泵（12）、高压喷嘴（13）、导向板（14）、第二铰链（15）、两组电磁线圈（4）、两个磁轭（16）、三个第一铰链（6）和三个抛光轮（5）；三个抛光轮（5）呈三角形分布，分别通过第一铰链（6）与地面固连，抛光带（8）套在上述三个抛光轮（5）上，其中两个抛光轮（5）水平设置，第三个抛光轮（5）不在上述两个抛光轮（5）中垂线上，偏向上述两个抛光轮（5）中的任意一个抛光轮（5），另一个抛光轮（5）的下方设有溶液箱（9），溶液箱（9）内设有抛光液（10），紧固弹簧（1）一端与紧固滑块（2）连接，另一端与地面连接，每个磁轭（16）外侧壁上缠绕一组电磁线圈（4），两组电磁线圈（4）串联，一个磁轭（16）平行置于另一个磁轭（16）的正上方，工件（3）穿过上述两个磁轭（16）的间隙，工件（3）一端通过第二铰链（15）与地面铰连，另一端与紧固滑块（2）接触，使得工件（3）平行于抛光带（8）水平段上方，两者之间存在间隙，导向板（14）位于所述间隙进口，且与第二铰链（15）固连，泵（12）进口通过高压管与溶液箱（9）的出液口相连，出口通过高压管接高压喷嘴（13），泵（12）将溶液箱（9）中的抛光液（10）经过高压喷嘴（13）在导向板（14）的作用下引流到间隙中从而对工件（3）进行抛光，刮块（7）与抛光带（8）接触，且位于溶液箱（9）斜上方，使得抛光后间隙中的抛光液（10）在抛光带（8）的带动下，落入溶液箱（9）的进液口，刮块（7）将抛光带（8）上残留的抛光液（10）刮入溶液箱（9）的进液口；

所述抛光液（10）采用软磁性颗粒的质量分数为75%的聚氨酯基磁流变胶。

2.根据权利要求1所述的用于大平板表面抛光的双级串联式磁控平面抛光装置，其特征在于：所述溶液箱（9）为U形。