[发明专利]掩模组件、用其制造显示装置的设备和方法以及显示装置

权利要求书

1.掩模组件，包括：

掩模框架；

至少两个掩模片，所述至少两个掩模片安装在所述掩模框架上，所述至少两个掩模片中的每个具有伸长形状并包括多个开口；以及

至少两个薄屏蔽板，所述至少两个薄屏蔽板具有具备平坦形状的板的形式并安装在所述掩模框架上，使得所述至少两个薄屏蔽板在所述掩模片的纵长方向上彼此间隔开以及屏蔽所述至少两个掩模片中的每个的所述多个开口的一部分，

其中，所述至少两个掩模片和所述至少两个薄屏蔽板中的一个包括位于彼此间隔开的所述至少两个薄屏蔽板之间的屏蔽部，所述屏蔽部选择性地阻挡所述多个开口中的至少部分，从而形成具有除矩形或者正方形之外的形状的沉积区。

2.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述屏蔽部包括第一屏蔽部，所述第一屏蔽部包括所述薄屏蔽板的一部分以及突出至所述沉积区。

3.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述屏蔽部包括第二屏蔽部，所述第二屏蔽部屏蔽所述多个开口中的位于所述沉积区中的一部分，所述掩模片包括所述第二屏蔽部。

4.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述屏蔽部包括：

第一屏蔽部，所述第一屏蔽部包括所述薄屏蔽板的一部分以及突出至所述沉积区；以及

第二屏蔽部，所述第二屏蔽部屏蔽所述多个开口中的位于所述沉积区中的一部分，所述掩模片包括所述第二屏蔽部。

5.根据权利要求4所述的掩模组件，其中，所述第一屏蔽部与所述第二屏蔽部至少部分地重叠。

6.根据权利要求3所述的掩模组件，其中，所述第二屏蔽部中的至少一部分具有薄于所述掩模片的厚度的厚度。

7.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述屏蔽部屏蔽位于所述沉积区的边界处的至少一个开口的至少一部分。

8.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述掩模片包括第一材料，以及所述薄屏蔽板包括与所述第一材料不同的第二材料。

9.用于制造显示装置的设备，所述设备包括：

掩模组件；

源单元，所述源单元面对所述掩模组件以及配置为供给沉积材料；以及

磁场生成单元，所述磁场生成单元配置为将所述掩模组件朝向显示衬底引导，

其中，所述掩模组件包括：

掩模框架；

至少两个掩模片，所述至少两个掩模片安装在所述掩模框架上，所述至少两个掩模片中的每个具有伸长形状并包括多个开口；以及

至少两个薄屏蔽板，所述至少两个薄屏蔽板具有具备平坦形状的板的形式并安装在所述掩模框架上，使得所述至少两个薄屏蔽板在所述掩模片的纵长方向上彼此间隔开以及屏蔽所述至少两个掩模片中的每个的所述多个开口的一部分，

其中，所述至少两个掩模片和所述至少两个薄屏蔽板中的一个包括位于彼此间隔开的所述至少两个薄屏蔽板之间的屏蔽部，所述屏蔽部选择性地阻挡所述多个开口中的至少部分，从而形成具有除矩形或者正方形之外的形状的沉积区。

10.根据权利要求9所述的设备，其中，所述屏蔽部包括第一屏蔽部，所述第一屏蔽部包括所述薄屏蔽板的一部分以及突出至所述沉积区。

11.根据权利要求9所述的设备，其中，所述屏蔽部包括第二屏蔽部，所述第二屏蔽部屏蔽所述多个开口中的位于所述沉积区中的一部分，所述掩模片包括所述第二屏蔽部。

12.根据权利要求9所述的设备，其中，所述屏蔽部包括：

第一屏蔽部，所述第一屏蔽部包括所述薄屏蔽板的一部分以及突出至所述沉积区；以及

第二屏蔽部，所述第二屏蔽部屏蔽所述多个开口中的位于所述沉积区中的一部分，所述掩模片包括所述第二屏蔽部。

13.根据权利要求12所述的设备，其中，所述第一屏蔽部与所述第二屏蔽部至少部分地重叠。