[发明专利]一种磁流变平面抛光装置在审
申请号: | 201710662467.6 | 申请日: | 2017-08-04 |
公开(公告)号: | CN107378651A | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
发明(设计)人: | 李建勇;樊文刚;曹建国;刘月明;聂蒙;朱朋哲;易德福 | 申请(专利权)人: | 北京交通大学;江西德义半导体科技有限公司 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00 |
代理公司: | 北京市商泰律师事务所11255 | 代理人: | 黄晓军 |
地址: | 100044 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 流变 平面 抛光 装置 | ||
1.一种磁流变平面抛光装置,其特征在于:包括支架(1),所述支架(1)的顶端设有平台(9),所述平台(9)上固定有旋转座(10),所述旋转座(10)上设有抛光盘(3),所述旋转座(10)连接有抛光盘驱动机构(4);所述抛光盘(3)的上方设有工件夹持机构(5),所述工件夹持机构(5)包括有夹盘(507),所述夹盘(507)位于所述抛光盘(3)上方;所述平台(9)的下方设有磁场发生机构(6),所述磁场发生机构(6)包括有转盘(7),所述转盘(7)位于所述抛光盘(3)的下方,所述转盘(7)上以所述转盘(7)的中心为起点,沿等速螺线均匀设置有若干永磁铁(8)。
2.根据权利要求1所述的磁流变平面抛光装置,其特征在于:所述平台(9)上固定有支撑杆(11),所述工件夹持机构(5)设于所述支撑杆(11)上;所述工件夹持机构(5)包括水平驱动滑台(501),所述水平驱动滑台(501)固定在所述支撑杆(11)的顶端,所述水平驱动滑台(501)上滑动设有水平滑块(502),所述水平滑块(502)上固定有垂直驱动滑台(503),所述垂直驱动滑台(503)上滑动设有垂直滑块(504),所述垂直滑块(504)上固定有电机二(505),所述电机二(505)传动连接有转轴一(506),所述转轴一(506)下端连接所述夹盘(507)。
3.根据权利要求1所述的磁流变平面抛光装置,其特征在于:所述磁场发生机构(6)还包括有支座二(601),所述支座二(601)固定于所述平台(9)的下端面,所述支座二(601)的一侧面上设有两个竖直导轨(602),所述两个竖直导轨(602)之间设有滚珠丝杠(603),所述滚珠丝杠(603)上连接有支座三(604),所述支座三(604)上固定有电机三(605),所述电机三(605)上连接有转轴二(606),所述转盘(7)固定在所述转轴二(606)的顶端,所述滚珠丝杠(603)的底端连接有旋转手柄(607)。
4.根据权利要求1所述的磁流变平面抛光装置,其特征在于:所述抛光盘驱动机构(4)包括有电机一(401),所述电机一(401)竖直固定在支座一(402)上,所述支座一(402)固定于所述支架(1)的底部;所述支座一(402)的另一侧通过传动轴承(410)竖直设置有一传动轴(405),所述传动轴(405)的底端设有从动轮一(404);所述电机一(401)的转轴上设有驱动轮(403),所述驱动轮(403)通过传动带一(409)与所述从动轮一(404)连接;所述传动轴(405)的顶端设有从动轮二(406),所述从动轮二(406)通过传动带二(407)连接所述旋转座(10),所述从动轮二(406)和所述抛光盘(3)之间设有张紧轮(408)。
5.根据权利要求4所述的磁流变平面抛光装置,其特征在于:所述抛光盘(3)为杯型,所述抛光盘(3)的侧壁(303)上均匀设有若干溢流孔(307),所述抛光盘(3)的侧壁(303)上设有与所述溢流孔(307)相对应的液位调节装置。
6.根据权利要求5所述的磁流变平面抛光装置,其特征在于:所述溢流孔(307)为矩形孔,所述的液位调节装置为套设于所述抛光盘(3)的侧壁(303)外侧的紧箍环(301),所述紧箍环(301)的底端低于所述抛光盘(3)下端面的高度。
7.根据权利要求6所述的磁流变平面抛光装置,其特征在于:所述抛光盘(3)的下方设有抛光液回收装置。
8.根据权利要求7所述的磁流变平面抛光装置,其特征在于:所述的抛光液回收装置为固定在所述平台(9)上的环形储液槽(302),所述环形储液槽(302)的内环壁的高度低于所述抛光盘(3)的下端面的高度,所述环形储液槽(302)的外环壁的高度高于所述抛光盘(3)的侧壁(303)的高度,所述紧箍环(301)处于所述环形储液槽(302)的槽腔范围内。
9.根据权利要求8所述的磁流变平面抛光装置,其特征在于:所述夹盘(507)内部设有温度传感器和压力传感器。
10.根据权利要求8所述的磁流变平面抛光装置,其特征在于:所述紧箍环(301)由弹性材料制成。
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