[发明专利]一种基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法有效

专利信息
申请号: 201710662957.6 申请日: 2017-08-04
公开(公告)号: CN107443176B 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: 李建勇;李保震;朱朋哲;曹建国;聂蒙 申请(专利权)人: 北京交通大学
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B31/10
代理公司: 11255 北京市商泰律师事务所 代理人: 黄晓军
地址: 100044 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 流变 泡沫 光滑 平面 抛光 方法
【权利要求书】:

1.一种基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤S110:制作泡沫基体,所述泡沫基体内设有若干相互连通的通孔;其中,所述泡沫基体为软质聚氨酯泡沫塑料,所述通孔的直径范围为10μm~200μm;

步骤S120:将所述泡沫基体安装在抛光装置中的抛光盘内;

步骤S130:在所述抛光盘内注入磁流变抛光液,所述磁流变抛光液的成分包括铁磁性颗粒、去离子水、活性剂、添加剂和磨料;

步骤S140:根据待加工工件的参数要求调节工艺参数;

步骤S150:将待加工工件安装在所述抛光装置的抛光头上;

步骤S160:将所述抛光装置接通电源,磁场发生装置旋转产生脉冲磁场,抛光盘内的磁流变抛光液在所述泡沫基体的范围内产生磁刷,所述磁刷随抛光盘旋转,同时,抛光头带动待加工工件旋转,实现待加工工件的表面抛光;

在抛光过程中,磁流变抛光液通过所述通孔浸入泡沫基体内部,在脉冲磁场作用下磁流变抛光液中铁磁性颗粒形成链状结构;磁刷与链状结构相连,结合泡沫基体的吸附作用,磁流变抛光液被限制在有效区域而不扩散,磁流变抛光液与泡沫基体相互耦合。

2.根据权利要求1所述的基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法,其特征在于:所述磁场发生装置包括电磁铁。

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