[发明专利]一种超结功率器件在审

专利信息
申请号: 201710665519.5 申请日: 2017-08-07
公开(公告)号: CN107516678A 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 任敏;苏志恒;李佳驹;李泽宏;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06;H01L29/36
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙)51232 代理人: 孙一峰
地址: 611731 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 功率 器件
【权利要求书】:

1.一种超结功率器件,包括从下至上依次层叠设置的金属化漏极(1)、第一导电类型重掺杂衬底(2)、第一导电类型轻掺杂外延层(3)和金属化源极(11);所述第一导电类型轻掺杂外延层(3)中具有由交替排列的第二导电类型半导体柱(4)和第一导电类型半导体柱(5)形成的超结结构;所述第二导电类型半导体柱(4)与金属化源极(11)的下表面之间具有第二导电类型半导体体区(6),所述第一导电类型半导体柱(5)与金属化源极(11)的下表面之间具有第一导电类型轻掺杂JFET区(13),且第二导电类型半导体体区(6)的横向宽度越靠近金属化源极(11)越大,所述第二导电类型半导体体区(6)上层具有相互独立并接触的第一导电类型半导体源区(7)和第二导电类型半导体重掺杂接触区(12),且第二导电类型半导体重掺杂接触区(12)位于两侧的第一导电类型半导体源区(7)之间,第一导电类型半导体源区(7)和第二导电类型半导体重掺杂接触区(12)的上表面与金属化源极(11)接触;位于第一导电类型半导体源区(7)和与其相邻的第一导电类型轻掺杂JFET区(13)之间的第二导电类型半导体体区(6)为沟道区;在所述第一导电类型轻掺杂JFET区(13)上表面具有嵌入金属化源极(11)中的栅极结构,所述栅极结构包括栅氧层(8)和位于栅氧层(8)上表面的多晶硅栅(9),所述栅极结构完全覆盖第一导电类型轻掺杂JFET区(13)的上表面并向两侧延伸至部分第二导电类型半导体体区(6)以及部分第一导电类型半导体源区(7)的上表面;所述栅极结构与金属化源极(11)之间通过介质层(10)隔离;其特征在于,所述第二导电类型半导体柱(4)和第一导电类型半导体柱(5)均具有至少两种以上的不同浓度,且相邻的第二导电类型半导体柱(4)和第一导电类型半导体柱(5)满足电荷平衡。

2.根据权利要求1所述的一种超结功率器件,其特征在于所述第一导电类型半导体为n型半导体,所述第二导电类型半导体为p型半导体;或者所述第一导电类型半导体为P型半导体,所述第二导电类型半导体为n型半导体。

3.根据权利要求1所述的一种超结功率器件,其特征在于所述栅氧层(8)的材质为氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铅中的一种。

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