[发明专利]一种偏光片光学量测系统、量测方法及量测处理设备

说明书

本发明公开了一种偏光片光学量测系统、量测方法及量测处理设备，所述量测系统包括：量测组件和控制装置；所述量测组件包括依序设置于测试光的光路上的偏光片载台和光接收器件；所述控制装置分别与所述偏光片载台和所述光接收器件连接，用于：控制所述偏光片载台进行旋转；从所述光接收器件中探测所述测试光的光谱；根据得到的光谱计算所述待测偏光片的光学参数。通过上述方法，本发明可以满足对偏光片光学参数的量测的高精度要求。

技术领域

本发明涉及液晶显示领域，特别是涉及一种偏光片光学量测系统、量测方法及量测处理设备。

背景技术

目前常用的液晶面板显示模式主要包括TN模式、VA模式、IPS模式。以VA模式为例：VA显示是一种垂直配向的常黑模式，其上下基板偏光片吸收轴垂直偏贴。VA液晶显示的原理基于液晶的透光率随其所施电压大小而变化的特性。

当光通过下基板(TFT基板)偏振片后，变成线性偏振光，偏振方向与下偏振片穿透方向一致。在不加电压时，光线经过液晶不会发生偏振方向改变，经过上基板(CF基板)偏光片光线被吸收，为黑态。当加上电压以后，液晶在电场作用下沿配向方向发生偏转，当光通过液晶层时，由于受液晶折射，线性偏振光被分解为两束光，又由于这两束光传播速度不同，因而当两束光合成后，必然使偏振光的偏振方向发生变化，当入射光达到上基板(CF基板)偏振片时，与下偏振片的穿透方向平行的光线可以通过，为亮态。

可知，在整个显示过程中，偏光片起到至关重要的作用，偏光片会影响液晶面板的穿透率、亮度、对比度、色度等重要参数，故需要对偏光片的各项光学参数，比如单体穿透率、平行穿透率、垂直穿透率、穿透频谱、色度、偏亮度等各种参数进行监控和量测。目前高阶偏光片的光学参数在往理论极限值靠近，不同商家的产品差异逐渐缩小，同时，同一商家的偏光片也需要对不同类型、不同批次的偏光片单体光学差异进行评估，所以对于偏光片的量测精度的要求越来越高；特别是对于垂直穿透率，因为上下偏光片透过轴垂直，理论上光不透过，垂直穿透率很低，所以对偏光片的量测精度和量测重复性要求很高。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种偏光片光学量测系统、量测方法及量测处理设备，可以满足对偏光片光学参数的量测的高精度要求。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是提供一种偏光片光学量测系统，包括：量测组件和控制装置；所述量测组件包括依序设置于测试光的光路上的偏光片载台和光接收器件；其中，所述偏光片载台用于承载待测偏光片，并响应所述控制装置的控制指令进行旋转以改变其承载的所述待测偏光片的偏振方向；所述光接收器件用于接收经过所述偏光片载台后的测试光；所述控制装置分别与所述偏光片载台和所述光接收器件连接，用于：在所述偏光片载台上未放置所述待测偏光片时，从所述光接收器件中探测所述测试光的第一光谱；在所述偏光片载台上放置所述待测偏光片时，控制所述偏光片载台以一旋转角度进行多次旋转，以得到所述待测偏光片的穿透率满足设定要求的角度范围；以小于上轮旋转的旋转角度的一角度作为新的旋转角度，控制所述偏光片载台在上轮旋转得到的角度范围内以新的旋转角度进行多次旋转，以从所述上轮旋转得到的角度范围内选择出新的所述待测偏光片的穿透率满足所述设定要求的角度范围；执行本步骤至少一次以上后，从最终轮旋转得到的角度范围中选择一角度作为参考角度；在所述偏光片载台旋转至所述参考角度时，从所述光接收器件中探测所述测试光的第二光谱，并在所述偏光片载台旋转至与所述参考角度垂直的角度时，从所述光接收器件中探测所述测试光的第三光谱；根据得到的所述第一光谱、所述第二光谱和所述第三光谱计算所述待测偏光片的光学参数。