[发明专利]液浸构件、曝光装置、液浸曝光装置、液浸曝光方法及元件制造方法

权利要求书

1.一种液浸构件，用于通过在光学构件的射出面与基板之间的液体以曝光用光使该基板曝光的液浸曝光装置，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：

第1构件，具有第1下面，配置在该光学构件周围的至少一部分；以及

第2构件，具有与该第1下面通过间隙相对的第2上面以及该物体能相对的第2下面，配置在该曝光用光的光路周围的至少一部分並能相对该第1构件移动，

该第2构件具有能回收该第1构件的该第1下面与该第2构件的该第2上面间的第1空间的液体的第1液体回收部，和配置于该第2下面周围的至少一部分且能自该第2构件与该物体之间的第2空间回收液体的第2液体回收部，

该第2构件，具有与相对该光路朝向外侧的该第1构件的外侧面隔着间隙相对的内侧面。

2.如权利要求1的液浸构件，其具备连接于该第2构件的支承构件；

根据通过驱动装置使该支承构件移动，该第2构件即移动。

3.如权利要求1的液浸构件，其中，于该内侧面的外侧，配置有供自该第2液体回收部回收的流体流动的该第2构件的内部流路。

4.如权利要求1的液浸构件，其中，该物体能相对于该第2液体回收部。

5.如权利要求4的液浸构件，其中，该第2构件能在与该光学构件的光轴实质垂直的平面内移动。

6.如权利要求5的液浸构件，其具备能供应用以形成该液浸空间的该液体的供应部。

7.如权利要求6的液浸构件，其中，该供应部配置于该第1构件。

8.如权利要求7的液浸构件，其中，来自该供应部的该液体的至少一部分被供应至该第1下面与该第2上面之间的第1空间，并通过该第1液体回收部回收。

9.一种曝光装置，通过液体以曝光用光使基板曝光，其具备权利要求1至8中任一项的液浸构件。

10.如权利要求9的曝光装置，其中，该第2构件能以该第2构件和该物体的相对速度变小的方式移动。

11.如权利要求9的曝光装置，其中，该第2构件能以该第2构件和该物体的相对速度，较该第1构件与该物体的相对速度小的方式移动。

12.如权利要求11的曝光装置，其中，在曝光包含第1照射区域与第2照射区域的该基板的多个照射区域期间，该液浸空间覆盖该基板的表面的一部分，该第1照射区域是在以第1扫描方向移动该基板时被曝光，

在该第1照射区域后，该第2照射区域是在以第2扫描方向移动该基板时被曝光，

在完成该第1照射区域的曝光后且在开始该第2照射区域的曝光前的步进周期期间，该基板以包含与该第1扫描方向交叉的成分的步进方向来移动，

在该步进周期期间，该第2构件以包含与该第1扫描方向交叉的该成分的移动方向来移动，使得该第2构件和该基板间的相对速度变成比该第1构件和该基板间的相对速度还小，且该基板开始以该步进方向移动的时间是不同于该第2构件开始以该移动方向移动的时间。