[发明专利]化学增幅型感光性树脂组合物及由其制造的绝缘膜

说明书

本发明提供能够得到图案的密合性和均一性优异的绝缘膜的化学增幅型感光性树脂组合物和由其制造的绝缘膜。本发明涉及化学增幅型感光性树脂组合物和由其制造的绝缘膜。更详细地说，涉及化学增幅型感光性树脂组合物和由其制造的绝缘膜，该化学增幅型感光性树脂组合物通过包含(A)粘接剂树脂、(B)光致产酸剂和(C)溶剂，能够得到图案的密合性和均一性优异的绝缘膜，其中(A)粘接剂树脂包含(a‑1)酚性羟基或羧基的至少一部分用酸分解性基团保护的树脂、(a‑2)含有环氧基的丙烯酸系树脂和(a‑3)硅氧烷树脂。

技术领域

本发明涉及化学增幅型感光性树脂组合物及由其制造的绝缘膜。

背景技术

在薄膜晶体管(TFT)型的液晶显示装置等显示装置中，作为用于保护TFT(薄膜晶体管)电路、使其绝缘的保护膜，以往使用了氮化硅等无机系保护膜。但是，由于介电常数高，因此存在开口率未提高的问题，为了消除该问题，倾向于更加需要介电常数低的有机绝缘膜。

作为这样的有机绝缘膜，一般使用作为通过光和电子束而进行化学反应、对于特定溶剂的溶解度变化的高分子化合物的感光性树脂。然后，通过由上述有机绝缘膜的光反应引起的高分子的极性变化和交联反应来进行电路图案的微细加工。特别地，上述有机绝缘膜材料利用了曝光后的对于碱水溶液等溶剂的溶解性的变化特性。

上述有机绝缘膜根据经感光的部分对于显影的溶解度而分类为正型和负型。正型光致抗蚀剂是使曝光了的部分溶解于显影液而形成图案的方式，负型光致抗蚀剂是曝光了的部分在显影液中不溶解、使没有曝光的部分溶解而形成图案的方式。

其中，就正型有机绝缘膜而言，通过使用碱水溶液，能够避免使用负型有机绝缘膜中使用的有机显影液。由此，不仅在作业环境方面是有利的，而且在理论上能够防止没有暴露于紫外线的部分的溶胀现象，因此具有提高分辨率的优点。另外，还具有如下优点：在形成了有机膜后，容易除去所采用的剥离液，工序中的不良面板产生时，通过除去有机膜，基板回收和再使用性显著提高。

特别地，作为这样的有机绝缘膜，在构成液晶显示装置的绝缘膜等时，对于上述绝缘膜要求有优异的绝缘性、在基板上涂布时用于减小界面处的应力的低的热膨胀性、物理上强韧的特性等。

进而，上述绝缘膜、保护膜等必然与金属、硅化合物等形成界面，此时优异的密合力在器件的可靠性方面是非常重要的要素。为了提供电路间的相互连接通路，绝缘膜会经历微细图案的形成过程。此时，如果对绝缘膜自身赋予感光性，则能够减少以往在绝缘膜上涂布另外的光致抗蚀剂而形成图案的工序，因此能够更简单地形成微细图案。

出于这样的理由，对于上述正型有机绝缘膜组合物而言，正在积极地进行采用下述组合物的研究：以作为代表性的粘接剂树脂使用的丙烯酸系感光性树脂为首，在酚醛清漆树脂系、聚酰亚胺或硅氧烷系等的粘接剂树脂中添加了赋予了感光性的化合物(PAC；photo active compound)等。最近上述绝缘膜已商业化，销售使用了上述绝缘膜的各种器件的时刻已到来。

特别地，在必须将绝缘膜形成于硅氮化膜的情况下，为了提高密合力，用六甲基二硅氮烷(hexamethyldisilazane、HDMS)预先对硅氮化膜进行表面处理，但HDMS是对人体非常有害的物质。

为了解决这样的问题，韩国公开专利第10-2010-0049687号中公开了正型感光性树脂组合物，其包含：被具有不饱和烃基的化合物改性了的酚醛树脂、在光的作用下生成酸的化合物、热交联剂和溶剂。但是，感度并不良好，另外，如果不使用HDMS，则依然没有获得充分的密合性。

现有技术文献

专利文献

【特許文献1】：韩国公开专利第10-2010-0049687号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明的目的在于提供与基板的密合性优异的化学增幅型感光性树脂组合物。