[发明专利]一种纹路识别器件、阵列基板及显示装置

权利要求书

1.一种纹路识别器件，其特征在于，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上的多个纹路识别单元；各所述纹路识别单元包括：光敏结构，以及与所述光敏结构对应设置的光路选择器；其中，

所述光敏结构包括层叠设置的第一遮光电极、光敏二极管和第二遮光电极；所述第一遮光电极具有开口区域；

所述光路选择器包括：第一反射斜面，与所述第一反射斜面相对而置的第二反射斜面；

所述光路选择器，用于将与所述纹路识别器件的表面呈一定角度的纹路光线反射至所述开口区域。

2.如权利要求1所述的纹路识别器件，其特征在于，所述光路选择器设置于所述衬底基板与所述光敏结构之间；

所述第一反射斜面和所述第二反射斜面沿着垂直于所述衬底基板的对称轴呈对称分布；且从所述衬底基板指向所述光敏结构的方向，所述第一反射斜面和所述第二反射斜面之间的距离逐渐增大；

所述第一遮光电极、光敏二极管和第二遮光电极在所述衬底基板上依次层叠设置。

3.如权利要求2所述的纹路识别器件，其特征在于，所述光路选择器还包括：在靠近所述衬底基板一侧的连接所述第一反射斜面和所述第二反射斜面的第一吸光平面。

4.如权利要求2所述的纹路识别器件，其特征在于，所述光路选择器还包括：设置于所述第一遮光电极下表面的第二吸光平面。

5.如权利要求2所述的纹路识别器件，其特征在于，各所述纹路识别单元还包括：与所述光敏结构连接的开关晶体管，所述开关晶体管设置于所述衬底基板与所述光路选择器之间。

6.如权利要求1所述的纹路识别器件，其特征在于，所述光路选择器设置于所述光敏结构之上；

所述第一反射斜面和所述第二反射斜面相互平行；

所述第二遮光电极、光敏二极管和第一遮光电极在所述衬底基板上依次层叠设置。

7.如权利要求6所述的纹路识别器件，其特征在于，所述光路选择器还包括：设置于所述第一遮光电极上表面的第三吸光平面。

8.如权利要求6所述的纹路识别器件，其特征在于，所述光路选择器还包括：设置于所述第二反射斜面远离所述衬底基板一侧的第四吸光平面。

9.如权利要求6所述的纹路识别器件，其特征在于，各所述纹路识别单元还包括：与所述光敏结构连接的开关晶体管，所述开关晶体管设置于所述衬底基板与所述光敏结构之间。

10.如权利要求2-9任一项所述的纹路识别器件，其特征在于，所述第一反射斜面和所述第二反射斜面分别与所述衬底基板之间的夹角均为θ度；

所述光路选择器用于将与所述纹路识别器件的表面呈2θ度的纹路光线反射至所述开口区域。

11.如权利要求10所述的纹路识别器件，其特征在于，所述第一反射斜面和所述第二反射斜面分别与所述衬底基板之间的夹角均为45度；

所述第一遮光电极的开口区域在所述衬底基板上的正投影与所述第二反射斜面在所述衬底基板上的正投影相互重合。

12.如权利要求5或9所述的纹路识别器件，其特征在于，所述第一遮光电极与所述开关晶体管的漏极电连接，所述第二遮光电极与加载固定电位的电极线电连接；或，

所述第一遮光电极与加载固定电位的电极线电连接，所述第二遮光电极与所述开关晶体管的漏极电连接。

13.如权利要求12所述的纹路识别器件，其特征在于，所述加载固定电位的电极线与所述开关晶体管的漏极同层设置。

14.一种阵列基板，其特征在于，包括：设置于显示区域的多个显示单元，以及设置于显示区域的如权利要求1-13任一项所述的纹路识别器件。