[发明专利]激光诱导的跨尺度光刻方法有效
| 申请号： | 201710678161.X | 申请日： | 2017-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN107390476B | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 魏劲松;魏涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激光 诱导 尺度 光刻 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于激光诱导跨尺度的光刻方法，其特征在于该方法包括以下步骤：
1)在基片(1)上用磁控溅射的方法镀上一层AgInSbTe相变薄膜(2)，该相变薄膜(2)具有相变热阈值效应及热扩散特征，得到镀膜样品；
2)利用激光直写系统对所述的镀膜样品进行辐照，通过调节激光功率密度和刻写速度，改变到达所述的相变薄膜(2)上的聚焦光斑(3)的能量，从而调控相变热阈值区域(4)得到纳米尺度结构；调控热扩散区域(5)得到微米尺度结构，实现跨尺度光刻，得到光刻样品；
3)对所述的光刻样品置于硫化铵水溶液、四甲基氢氧化铵溶液或氢氧化钾溶液中进行湿法显影，以获得从微米到纳米尺度连续变化的跨尺度微纳结构。
2.根据权利要求1所述的基于激光诱导的跨尺度光刻方法，其特征在于所述的相变薄膜(2)的厚度在50nm到500nm之间。
3.根据权利要求1所述的基于激光诱导的跨尺度光刻方法，其特征在于所述的基片(1)为石英玻璃或硅片。
4.根据权利要求1所述的基于激光诱导跨尺度光刻方法，其特征在于所述的激光直写系统的激光束(6)输出的激光波长为300-800nm，透镜(7)的数值孔径为0.05～0.95，所述的激光功率密度的调节范围为1×108～1×1010W/m2，所述的刻写速度的调节范围为1～10m/s。
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