[发明专利]彩膜基板、其制备方法、显示装置及显示方法

说明书

本发明涉及显示领域。特别涉及一种彩膜基板、包括彩膜基板的显示装置及显示方法。所述彩膜基板包括：第一基板；位于所述第一基板上的多个滤色单元和设置于每个滤色单元相对两侧的电极，所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行；所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光；覆盖所述滤色单元和电极的第二基板。一方面，由于所述彩膜基板省去了现有技术中重复制备不同滤色层的步骤，简化了生产工艺，提高了效率，节约了开发成本。另外一方面，通过在电极上施加电信号可以使滤色单元透射不同波长的光，不同颜色滤色单元的位置可以根据电场强度灵活控制，还能实现RGB和RGBW两种模式共用。

技术领域

本发明涉及显示领域，特别涉及彩膜基板、其制备方法、显示装置及显示方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)主要由阵列基板和彩膜基板对盒形成。其中，彩膜基板是实现TFT-LCD彩色显示的关键。随着彩膜基板技术的发展，降低其生产成本和缩短制备时间成为行业发展不断追求价值的方向。

彩膜基板的主要结构包括基板、设置于基板上的黑矩阵、设置于基板上且被黑矩阵间隔开的多个彩色滤光单元、保护层、ITO导电膜、柱状隔垫物等。

彩膜基板的制备方法通常为：

第一步：在基板的一侧形成透明导电层；

第二步：在基板的另一侧形成黑矩阵(BM，Black Matrix)；

第三步：在形成有黑矩阵的基板上形成彩色滤光单元；

第四步：在彩色滤光单元上形成平坦层；

第五步：在平坦层上形成柱状隔垫物(PS，Photo Spacer)；

第六步：在柱状隔垫物上形成配向膜层(PI，Polyimide film)。

目前，彩色滤光单元分别由R/G/B三原色光的色层材料制成，需要经过多次涂布不同颜色的色层材料、曝光、显影及成型工艺。因此，现有的彩膜基板制备工艺比较复杂，生产效率不高。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种彩膜基板、其制备方法、显示装置及显示方法，以简化彩膜基板的生产工艺，提高效率，节约开发成本，还可以实现RGB和RGBW两种模式共用。

本发明公开了一种彩膜基板，包括：

第一基板；

位于所述第一基板上的多个滤色单元和设置于每个滤色单元相对两侧的电极，所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行；所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光；

覆盖所述滤色单元和电极的第二基板。

优选地，所述滤色单元包括：

压电材料层和形成于所述压电材料层上的液晶层；所述液晶层包括液晶弹性体，所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行。

优选地，所述液晶层由10～70wt％的液晶弹性体、4～86.99wt％的小分子液晶、3～25wt％的光可聚合单体和0.01～1wt％的光引发剂经聚合而成。

优选地，所述小分子液晶为SLC1717，DIC0773，Merck1284；

所述光可聚合单体为或者

所述光引发剂为

所述液晶弹性体为其中为或者为或者

优选地，所述彩膜基板还包括：