[发明专利]一种掩模台系统及光刻机

权利要求书

1.一种掩模台系统，通过吊框安装在光刻机中，所述掩模台系统包括掩模台、掩模台底座、掩模台驱动单元及运动控制单元，其特征在于，所述掩模台系统还包括缓冲机构，所述缓冲机构固定在所述吊框上并与所述掩模台底座连接，用于削弱因掩模台驱动单元驱动掩模台而作用到掩模台底座上的驱动反力。

2.如权利要求1所述的掩模台系统，其特征在于，所述缓冲机构包括弹性元件、阻尼器及两套安装组件，所述弹性元件和所述阻尼器平行连接于所述两套安装组件之间，所述两套安装组件分别与所述掩模台底座和所述吊框连接。

3.如权利要求2所述的掩模台系统，其特征在于，所述两套安装组件中与所述掩模台底座连接的一套安装组件包括依次相连的阻尼连接块、第一调整板、第一隔振层及第一连接块，所述两套安装组件中与所述吊框连接的一套安装组件包括依次连接的第二连接块、第二隔振层、第二调整板以及底座，所述弹性元件和阻尼器平行连接于所述第一连接块与所述第二连接块之间，所述阻尼连接块与所述掩模台底座固定，所述底座与所述吊框固定，所述第一调整板调整所述第一隔振层相对所述阻尼连接块的位置，所述第二调整板调整所述第二隔振层相对所述底座的位置。

4.如权利要求3所述的掩模台系统，其特征在于，所述弹性元件的两端通过弹性元件底座固定在所述第一连接块及所述第二连接块的正中间。

5.如权利要求3所述的掩模台系统，其特征在于，所述阻尼器的两端通过转接轴固定在所述第一连接块及所述第二连接块上。

6.如权利要求4所述的掩模台系统，其特征在于，沿所述弹性元件的轴向看去，多个所述阻尼器关于所述弹性元件呈中心对称分布。

7.如权利要求3所述的掩模台系统，其特征在于，所述第一隔振层与第二隔振层均为叠层橡胶。

8.如权利要求2所述的掩模台系统，其特征在于，所述弹性元件为压缩弹簧。

9.如权利要求1所述的掩模台系统，其特征在于，所述掩模台系统还包括加速度传感器，所述加速度传感器设置在所述吊框上，用来测量所述吊框的振动加速度信号并反馈给所述运动控制单元，所述运动控制单元根据所述吊框的振动加速度信号调控所述掩模台驱动单元输出的驱动力。

10.一种光刻机，其特征在于，包括至少一套如权利要求1至9中任意一项所述的掩模台系统。