[发明专利]一种电子元器件的吸头装置以及吸头装置的加工方法在审
申请号: | 201710683820.9 | 申请日: | 2017-08-11 |
公开(公告)号: | CN107634028A | 公开(公告)日: | 2018-01-26 |
发明(设计)人: | 李波;夏俊生;李文才;侯育增;张静 | 申请(专利权)人: | 北方电子研究院安徽有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所34113 | 代理人: | 尹杰 |
地址: | 233030 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电子元器件 吸头 装置 以及 加工 方法 | ||
技术领域
本发明涉及电子元器件加工技术领域,特别涉及一种电子元器件的吸头装置以及吸头装置的加工方法。
背景技术
在电路加工过程中,需要将半导体和混合电路元器件粘结到指定位置,半导体和混合电路元器件粘片工艺有如下两种方式:1、采用真空管道连接吸嘴,通过控制器控制进行吸片和放片;2、采用人工手动粘片或取料。第一种方式是当粘片设备粘片时,设备移动吸嘴到指定元件表面,通过设备真空控制阀打开吸嘴真空,吸嘴吸附芯片并移动到指定粘接位置,该位置已预置粘接胶,然后放置芯片到粘接胶上,轻压芯片后,关闭吸嘴真空控制阀上抬吸嘴,完成粘片,在此过程中有如下两个弊端:a、需要用到管道真空或真空发生及控制装置,结构较为复杂,不仅成本高,而且在长时间时候后,易产生故障,b、吸嘴由钨钢、聚合物或陶瓷等材料制成,其材质较硬容易损伤芯片表面,塑料吸嘴还容易磨损,而报废,造成了浪费。第二种方式是,通过镊子或手持吸笔完成器件夹取或放置,对于易损伤器件,如多引脚塑封集成电路、半导体裸芯片、静电敏感器件等镊子夹持特别容易受损伤,为避免镊子造成的损伤,目前也有采用手持式吸笔进行吸片,但这种手持式吸笔对于较小的器件、表面不平整的器件、较重器件,常因吸力小或吸头与器件贴合不严而脱落。
发明内容
本发明的目的是为了解决背景技术中存在的缺点,而提出的一种用于电子元器件的吸头装置。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:
一种用于电子元器件的吸头装置,其特征在于:包括柱状柄,在柱状柄的端部连接吸头,吸头由硅胶制成。
在上述技术方案的基础上,可以有以下进一步的技术方案:
所述吸头装置用于粘片机时,所述柱状柄为直杆结构,且在柱状柄的前侧设有锥形杆,在锥形杆上连接所述吸头,吸头装置用于人工手动粘片时,所述柱状柄上设有手持柄,柱状柄与手持柄形成L型杆状结构。
所述吸头的前端设有吸附面,吸附面为平面结构。
所述吸附面的面积与吸附对象电子元器件的面积相对应,它们的对应关系如下:
a、电子元器件的面积为0.2mm2~0.5mm2时,吸附面的面积为对应电子元器件的1-2倍;
b、电子元器件的面积为0.5mm2~1mm2时,吸附面的面积为对应电子元器件的0.5-1;
c、电子元器件的面积为1mm2~8mm2时,吸附面的面积为对应电子元器件的1/3-1/2;
d、电子元器件的面积为大于8mm2时,吸附面的面积为对应电子元器件的1-2倍。
一种电子元器件吸头装置的加工方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一、制造所述柱状柄1;
步骤二、制作硅胶溶液;
步骤三、使用柱状柄蘸取适量大小硅胶的胶滴;
步骤四、将蘸取胶滴的柱状柄置于室温中固化,得到所述吸头。
所述的加工方法,还可以有以下技术方案:
制作模板,在模板上设有圆形凹槽,把步骤四处于半固化状态的硅胶,沿着所述柱状柄1垂直方向硅胶放入圆形凹槽内挤压得到所述吸附面。
本发明的优点在于:本装置与传统吸嘴、吸笔相比优点在于,不需要额外的真空通道、真空发生或控制装置,硅胶材质柔软不会对器件造成损伤,可隔离人体防止静电损伤,装置制作简单,可根据器件的大小或重量制作相应形状,其操作灵活,当吸头被污染时,使用酒精棉球擦洗即可,清洗方便,且本装置耐磨、耐用、耐高温,本装置与传统粘片工艺相比,不需要真空发生和控制装置,对器件损伤小,操作快键简便,硅胶成本低廉,具有很高经济效益和应用前景。
附图说明
图1是本发明中用于粘片机的吸头装置基本结构示意图;
图2是本发明中用于人工手动操作的吸头装置基本结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明更加清楚明白,以下结合附图对本装置详细说明,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
本发明提供的一种用于电子元器件的吸头装置,包括柱状柄1,在柱状柄1的端部连接吸头2。
如图1所示,所述吸头装置用于粘片机时,所述柱状柄1为直杆结构,且在柱状柄1的前侧设有锥形杆5,在锥形杆5上连接所述吸头2。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造